Plasma Processing Apparatus

A plasma processing apparatus comprises a processing chamber having a processing space, an electromagnetic wave generator configured to generate electromagnetic waves for plasma excitation to be supplied to the processing space, a dielectric having a first surface facing the processing space, an ele...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SAKAI, Osamu, KANEKO, Kazushi
Format: Patent
Sprache:eng
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