SEMICONDUCTOR DEVICE

A semiconductor device includes a fin-shaped pattern, a field insulating film covering a sidewall of the fin-shaped pattern, a source/drain pattern disposed on an upper surface of the fin-shaped pattern, a source/drain etch stop film extending along an upper surface of the field insulating film and...

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Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LEE, Eui Bok, SONG, Moon Kyun
Format: Patent
Sprache:eng
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