SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

A semiconductor device includes: a substrate; a first interlayer insulating layer on the substrate; a first wiring pattern in a first trench of the first interlayer insulating layer; a second interlayer insulating layer on the first interlayer insulating layer; a second wiring pattern in a second tr...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Noh, Sun Young, Kim, Wan Don, Lee, Eui Bok, Jang, Han Min
Format: Patent
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!