METAL OXIDE SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT BASIC UNIT

A MOS integrated circuit basic unit includes: a drain semiconductor region; a lightly doped drain region; a channel semiconductor region; a source semiconductor region; a source electrode; a gate electrode; a gate dielectric layer; and a drain electrode. The drain semiconductor region is the bottom...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: FENG, Ke, TANG, Ruifeng, LIAO, Yongbo, NIE, Ruihong, ZENG, Xianghe, LI, Ping, HU, Zhaoxi, LIN, Fan, PENG, Chenxi, LI, Yaosen, ZOU, Jiarui
Format: Patent
Sprache:eng
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