DIFFUSED BITLINE REPLACEMENT IN STACKED WAFER MEMORY

Techniques are disclosed herein for creating metal BLs in stacked wafer memory. Using techniques described herein, metal BLs are created on a bottom surface of a wafer. The metal BLs can be created using different processes. In some configurations, a salicide process is utilized. In other configurat...

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1. Verfasser: Morein, Stephen
Format: Patent
Sprache:eng
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