In-situ Beam Profile Metrology

A system for determining various parameters of an ion beam is disclosed. A test workpiece may be modified to incorporate a detection pattern. The detection pattern may be configured to measure the height of the ion beam, the uniformity of the ion beam, or the central angle of the ion beam. In certai...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Anglin, Kevin R, Ruffell, Simon, Chen, Tsung-Liang
Format: Patent
Sprache:eng
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