SEMICONDUCTOR DEVICE

A semiconductor device (100, 100′, 100″) and a method for manufacturing a semiconductor device (100, 100′, 100″). The semiconductor device (100, 100′, 100″) includes a substrate (104, 106), a GaN layer (112), and an AlGaN layer (114). The GaN layer (112) is located between the substrate (104, 106) a...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: DONKERS JOHANNES JOSEPHUS THEODORUS MARINUS, BROEKMAN HANS
Format: Patent
Sprache:eng
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