TEXTURED III-V SEMICONDUCTOR

A method for fabricating a III-nitride semiconductor film, comprising depositing or growing a III-nitride semiconductor film in a semiconductor light absorbing or light emitting device structure; and growing a textured or structured surface of the III-nitride nitride semiconductor film in situ with...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: NEUFELD CARL J, IZA MICHAEL, CRUZ SAMANTHA C, FARRELL ROBERT M, DENBAARS STEVEN P, SPECK JAMES S, NAKAMURA SHUJI, MISHRA UMESH K
Format: Patent
Sprache:eng
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