Apparatus and System for Cleaning Substrate

An upper processing head includes a topside module defined to apply a cleaning material to a top surface of a substrate and then expose the substrate to a topside rinsing meniscus. The topside module is defined to flow a rinsing material through the topside rinsing meniscus in a substantially uni-di...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KAWAGUCHI MARK, MARTIN RUSSELL, GINZBURG LEON, LIN CHENG-YU (SEAN), WILCOXSON MARK
Format: Patent
Sprache:eng
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