RESPONDING TO ARC DISCHARGES

For responding to an arc discharge in a plasma process (PP), a parameter of the plasma process is monitored to detect arc discharges occurring in the plasma. After detection of an arc discharge, a first countermeasure for the suppression of arc discharges is executed. After completion of the first c...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: NITSCHKE MORITZ, ZAEHRINGER GERHARD
Format: Patent
Sprache:eng
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