Production method for a micromechanical component

A production method for a micromechanical component for a sensor or microphone device. The method includes: patterning a plurality of first trenches through a substrate surface of a monocrystalline substrate made of at least one semiconductor material using anisotropic etching, covering the lateral...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Mach, Sophielouise, Scheurle, Andreas, Fritz, Joachim, Schmollngruber, Peter, Weber, Heribert, Friedrich, Thomas
Format: Patent
Sprache:eng
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