Semiconductor device having cap layer

A semiconductor device includes a semiconductive substrate, a semiconductive fin, an isolation structure, a source/drain epitaxial structure, a first cap layer, and a second cap layer. The semiconductive fin protrudes from the semiconductive substrate. The isolation structure is over the semiconduct...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Wang, Sung-Li, Tsai, Pang-Yen, Okuno, Yasutoshi
Format: Patent
Sprache:eng
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