Overlay mark

An overlay mark includes a first feature extending in an X-direction, wherein the first feature is a first distance from a substrate. The overlay mark further includes a second feature extending in a Y-direction perpendicular to the X-direction, wherein the second feature is a second distance from t...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Shieh, Ming-Feng, Chang, Ching-Yu, Chen, Chen-Yu
Format: Patent
Sprache:eng
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