Air void control composition for carbonyl-containing monomer polymerization
The invention relates to the use of low levels of aliphatic primary and secondary amines to control air void formation in any polymerization reaction having carbonyl groups, and especially carboxylic acid ester group-containing monomers at a level of at least 10% of total monomer, where the monomer...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng |
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