FinFET based flash memory cell

A method of manufacturing a flash memory cell is provided including forming a plurality of semiconductor fins on a semiconductor substrate, forming floating gates for a sub-set of the plurality of semiconductor fins and forming a first insulating layer between the plurality of semiconductor fins. Th...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Baars, Peter, Faul, Juergen
Format: Patent
Sprache:eng
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