DEVICE FOR PRODUCING OF INGOTS OF MULTICRYSTAL SILICON BY INDUCTION
The invention relates to devices for producing of multi-crystal silicon by induction. A device comprises the cooled crucible with moving bottom, four walls of which are formed as sections, divided vertical gaps. At that inner surface of cooled crucible forms melting space of rectangular or square cr...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus ; ukr |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
container_end_page | |
---|---|
container_issue | |
container_start_page | |
container_title | |
container_volume | |
creator | MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH BERINHOV SERHII BORYSOVYCH ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH |
description | The invention relates to devices for producing of multi-crystal silicon by induction. A device comprises the cooled crucible with moving bottom, four walls of which are formed as sections, divided vertical gaps. At that inner surface of cooled crucible forms melting space of rectangular or square cross-section, and each wall of cooled crucible has central section, which provides deficiency vertical gaps at middle of wall of melting space. The sections of cooled crucible provides expansion of melting space at least from level of inductor to bottom of cooling crucible, which angel is determined with the ratio:,where: d - size of smaller from rectangular sides or size of square side of cross-section of melting space on level of inductor,b - size of contiguous side of cross-section of melting space on level of inductor,k - empirical coefficient having valve from 1.5 to 2.Decreasing of spilling of silicon smelt provided due to offered implementation, this results to improvement of quality of produced multicrystal silicon.
Винахід належить до пристроїв для отримання мультикристалічного кремнію індукційним методом. Пристрій включає охолоджуваний тигель з рухомим дном, чотири стінки якого утворені секціями, розділеними вертикальними щілинами. При цьому, внутрішня поверхня охолоджуваного тигля утворює плавильний простір прямокутного чи квадратного поперечного перерізу і кожна стінка охолоджуваного тигля має центральну секцію, що забезпечує відсутність вертикальної щілини по середині сторони плавильного простору. Секції охолоджуваного тигля забезпечують розширення плавильного простору принаймні від рівня індуктора до низу охолоджуваного тигля, кут якоговизначений співвідношенням:,де:d - розмір меншої зі сторін прямокутника або розмір сторони квадрата поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,b - розмір суміжної сторони поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,k - емпіричний коефіцієнт, що має значення від 1,5 до 2. За рахунок запропонованого виконання забезпечується зниження проливання розплаву кремнію, що приводить до покращення якості отриманого мультикристалічного кремнію.[Изобретение относится к устройствам для получения мультикристаллического кремния индукционным методом. Устройство включает охлаждаемый тигель с подвижным дном, четыре стенки которого образованы секциями, разделенными вертикальными щелями. При этом внутренняя поверхность охлаждаемого тигля образовывает плавильное пространство прямоугольного или квадратного по |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_UA94784C2</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>UA94784C2</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_UA94784C23</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHB2cQ3zdHZVcPMPUggI8ncJdfb0c1fwd1MAUv4hwSCWb6hPiKdzUGRwiKOPQrCnj6ezv5-CUyRQBVB1iKe_Hw8Da1piTnEqL5TmZpBzcw1x9tBNLciPTy0uSExOzUstiQ91tDQxtzBxNjImqAAAOtQqfA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>DEVICE FOR PRODUCING OF INGOTS OF MULTICRYSTAL SILICON BY INDUCTION</title><source>esp@cenet</source><creator>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH ; BERINHOV SERHII BORYSOVYCH ; ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH ; POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH ; SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH ; CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH ; CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</creator><creatorcontrib>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH ; BERINHOV SERHII BORYSOVYCH ; ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH ; POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH ; SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH ; CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH ; CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</creatorcontrib><description>The invention relates to devices for producing of multi-crystal silicon by induction. A device comprises the cooled crucible with moving bottom, four walls of which are formed as sections, divided vertical gaps. At that inner surface of cooled crucible forms melting space of rectangular or square cross-section, and each wall of cooled crucible has central section, which provides deficiency vertical gaps at middle of wall of melting space. The sections of cooled crucible provides expansion of melting space at least from level of inductor to bottom of cooling crucible, which angel is determined with the ratio:,where: d - size of smaller from rectangular sides or size of square side of cross-section of melting space on level of inductor,b - size of contiguous side of cross-section of melting space on level of inductor,k - empirical coefficient having valve from 1.5 to 2.Decreasing of spilling of silicon smelt provided due to offered implementation, this results to improvement of quality of produced multicrystal silicon.
Винахід належить до пристроїв для отримання мультикристалічного кремнію індукційним методом. Пристрій включає охолоджуваний тигель з рухомим дном, чотири стінки якого утворені секціями, розділеними вертикальними щілинами. При цьому, внутрішня поверхня охолоджуваного тигля утворює плавильний простір прямокутного чи квадратного поперечного перерізу і кожна стінка охолоджуваного тигля має центральну секцію, що забезпечує відсутність вертикальної щілини по середині сторони плавильного простору. Секції охолоджуваного тигля забезпечують розширення плавильного простору принаймні від рівня індуктора до низу охолоджуваного тигля, кут якоговизначений співвідношенням:,де:d - розмір меншої зі сторін прямокутника або розмір сторони квадрата поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,b - розмір суміжної сторони поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,k - емпіричний коефіцієнт, що має значення від 1,5 до 2. За рахунок запропонованого виконання забезпечується зниження проливання розплаву кремнію, що приводить до покращення якості отриманого мультикристалічного кремнію.[Изобретение относится к устройствам для получения мультикристаллического кремния индукционным методом. Устройство включает охлаждаемый тигель с подвижным дном, четыре стенки которого образованы секциями, разделенными вертикальными щелями. При этом внутренняя поверхность охлаждаемого тигля образовывает плавильное пространство прямоугольного или квадратного поперечного сечения, и каждая стенка охлаждаемого тигля имеет центральную секцию, которая обеспечивает отсутствие вертикальных щелей по средине</description><language>eng ; rus ; ukr</language><subject>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE ; APPARATUS THEREFOR ; CASTING ; CASTING OF METALS ; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES ; CHEMISTRY ; CRYSTAL GROWTH ; METALLURGY ; PERFORMING OPERATIONS ; POWDER METALLURGY ; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE ; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL ; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE ; SINGLE-CRYSTAL-GROWTH ; TRANSPORTING ; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</subject><creationdate>2011</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20110610&DB=EPODOC&CC=UA&NR=94784C2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76318</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20110610&DB=EPODOC&CC=UA&NR=94784C2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>BERINHOV SERHII BORYSOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</creatorcontrib><title>DEVICE FOR PRODUCING OF INGOTS OF MULTICRYSTAL SILICON BY INDUCTION</title><description>The invention relates to devices for producing of multi-crystal silicon by induction. A device comprises the cooled crucible with moving bottom, four walls of which are formed as sections, divided vertical gaps. At that inner surface of cooled crucible forms melting space of rectangular or square cross-section, and each wall of cooled crucible has central section, which provides deficiency vertical gaps at middle of wall of melting space. The sections of cooled crucible provides expansion of melting space at least from level of inductor to bottom of cooling crucible, which angel is determined with the ratio:,where: d - size of smaller from rectangular sides or size of square side of cross-section of melting space on level of inductor,b - size of contiguous side of cross-section of melting space on level of inductor,k - empirical coefficient having valve from 1.5 to 2.Decreasing of spilling of silicon smelt provided due to offered implementation, this results to improvement of quality of produced multicrystal silicon.
Винахід належить до пристроїв для отримання мультикристалічного кремнію індукційним методом. Пристрій включає охолоджуваний тигель з рухомим дном, чотири стінки якого утворені секціями, розділеними вертикальними щілинами. При цьому, внутрішня поверхня охолоджуваного тигля утворює плавильний простір прямокутного чи квадратного поперечного перерізу і кожна стінка охолоджуваного тигля має центральну секцію, що забезпечує відсутність вертикальної щілини по середині сторони плавильного простору. Секції охолоджуваного тигля забезпечують розширення плавильного простору принаймні від рівня індуктора до низу охолоджуваного тигля, кут якоговизначений співвідношенням:,де:d - розмір меншої зі сторін прямокутника або розмір сторони квадрата поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,b - розмір суміжної сторони поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,k - емпіричний коефіцієнт, що має значення від 1,5 до 2. За рахунок запропонованого виконання забезпечується зниження проливання розплаву кремнію, що приводить до покращення якості отриманого мультикристалічного кремнію.[Изобретение относится к устройствам для получения мультикристаллического кремния индукционным методом. Устройство включает охлаждаемый тигель с подвижным дном, четыре стенки которого образованы секциями, разделенными вертикальными щелями. При этом внутренняя поверхность охлаждаемого тигля образовывает плавильное пространство прямоугольного или квадратного поперечного сечения, и каждая стенка охлаждаемого тигля имеет центральную секцию, которая обеспечивает отсутствие вертикальных щелей по средине</description><subject>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE</subject><subject>APPARATUS THEREFOR</subject><subject>CASTING</subject><subject>CASTING OF METALS</subject><subject>CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>CRYSTAL GROWTH</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>POWDER METALLURGY</subject><subject>PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</subject><subject>REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL</subject><subject>SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</subject><subject>SINGLE-CRYSTAL-GROWTH</subject><subject>TRANSPORTING</subject><subject>UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2011</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHB2cQ3zdHZVcPMPUggI8ncJdfb0c1fwd1MAUv4hwSCWb6hPiKdzUGRwiKOPQrCnj6ezv5-CUyRQBVB1iKe_Hw8Da1piTnEqL5TmZpBzcw1x9tBNLciPTy0uSExOzUstiQ91tDQxtzBxNjImqAAAOtQqfA</recordid><startdate>20110610</startdate><enddate>20110610</enddate><creator>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH</creator><creator>BERINHOV SERHII BORYSOVYCH</creator><creator>ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH</creator><creator>POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH</creator><creator>SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH</creator><creator>CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH</creator><creator>CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20110610</creationdate><title>DEVICE FOR PRODUCING OF INGOTS OF MULTICRYSTAL SILICON BY INDUCTION</title><author>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH ; BERINHOV SERHII BORYSOVYCH ; ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH ; POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH ; SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH ; CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH ; CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_UA94784C23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; rus ; ukr</language><creationdate>2011</creationdate><topic>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE</topic><topic>APPARATUS THEREFOR</topic><topic>CASTING</topic><topic>CASTING OF METALS</topic><topic>CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>CRYSTAL GROWTH</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>POWDER METALLURGY</topic><topic>PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</topic><topic>REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL</topic><topic>SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</topic><topic>SINGLE-CRYSTAL-GROWTH</topic><topic>TRANSPORTING</topic><topic>UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>BERINHOV SERHII BORYSOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH</creatorcontrib><creatorcontrib>CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>MARCHENKO STEPAN ANATOLIIOVYCH</au><au>BERINHOV SERHII BORYSOVYCH</au><au>ONISCHENKO VOLODYMYR YEVHENOVYCH</au><au>POZIHUN SERHII ANATOLIIOVYCH</au><au>SHKULKOV ANATOLII VASILEVYCH</au><au>CHEPURNYI BOHDAN VASYLIOVYCH</au><au>CHERPAK YURII VOLODYMYROVYCH</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>DEVICE FOR PRODUCING OF INGOTS OF MULTICRYSTAL SILICON BY INDUCTION</title><date>2011-06-10</date><risdate>2011</risdate><abstract>The invention relates to devices for producing of multi-crystal silicon by induction. A device comprises the cooled crucible with moving bottom, four walls of which are formed as sections, divided vertical gaps. At that inner surface of cooled crucible forms melting space of rectangular or square cross-section, and each wall of cooled crucible has central section, which provides deficiency vertical gaps at middle of wall of melting space. The sections of cooled crucible provides expansion of melting space at least from level of inductor to bottom of cooling crucible, which angel is determined with the ratio:,where: d - size of smaller from rectangular sides or size of square side of cross-section of melting space on level of inductor,b - size of contiguous side of cross-section of melting space on level of inductor,k - empirical coefficient having valve from 1.5 to 2.Decreasing of spilling of silicon smelt provided due to offered implementation, this results to improvement of quality of produced multicrystal silicon.
Винахід належить до пристроїв для отримання мультикристалічного кремнію індукційним методом. Пристрій включає охолоджуваний тигель з рухомим дном, чотири стінки якого утворені секціями, розділеними вертикальними щілинами. При цьому, внутрішня поверхня охолоджуваного тигля утворює плавильний простір прямокутного чи квадратного поперечного перерізу і кожна стінка охолоджуваного тигля має центральну секцію, що забезпечує відсутність вертикальної щілини по середині сторони плавильного простору. Секції охолоджуваного тигля забезпечують розширення плавильного простору принаймні від рівня індуктора до низу охолоджуваного тигля, кут якоговизначений співвідношенням:,де:d - розмір меншої зі сторін прямокутника або розмір сторони квадрата поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,b - розмір суміжної сторони поперечного розрізу плавильного простору на рівні індуктора,k - емпіричний коефіцієнт, що має значення від 1,5 до 2. За рахунок запропонованого виконання забезпечується зниження проливання розплаву кремнію, що приводить до покращення якості отриманого мультикристалічного кремнію.[Изобретение относится к устройствам для получения мультикристаллического кремния индукционным методом. Устройство включает охлаждаемый тигель с подвижным дном, четыре стенки которого образованы секциями, разделенными вертикальными щелями. При этом внутренняя поверхность охлаждаемого тигля образовывает плавильное пространство прямоугольного или квадратного поперечного сечения, и каждая стенка охлаждаемого тигля имеет центральную секцию, которая обеспечивает отсутствие вертикальных щелей по средине</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | eng ; rus ; ukr |
recordid | cdi_epo_espacenet_UA94784C2 |
source | esp@cenet |
subjects | AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE APPARATUS THEREFOR CASTING CASTING OF METALS CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES CHEMISTRY CRYSTAL GROWTH METALLURGY PERFORMING OPERATIONS POWDER METALLURGY PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE SINGLE-CRYSTAL-GROWTH TRANSPORTING UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL |
title | DEVICE FOR PRODUCING OF INGOTS OF MULTICRYSTAL SILICON BY INDUCTION |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-10T19%3A48%3A02IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=MARCHENKO%20STEPAN%20ANATOLIIOVYCH&rft.date=2011-06-10&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EUA94784C2%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |