METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING A LAYER ON A SEMICONDUCTOR WAFER BY VAPOR DEPOSITION IN A PROCESS CHAMBER

14Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamberAbstract5Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber having an upper and a lower cover. The method comprises measuring the...

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1. Verfasser:	GEORG BRENNINGER
Format:	Patent
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext bestellen
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