ELECTRON BEAM GENERATION METHOD FOR ELECTRON BEAM TREATMENT OF METAL MATERIALS SURFACE

FIELD: electricity.SUBSTANCE: invention relates to a method for generating an electron beam for electron-beam surface treatment of metallic materials. An electron source with a plasma cathode with a grid stabilization of the emission plasma boundary and a plasma anode with an open plasma boundary is...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Shin Vladislav Igorevich, Koval Nikolai Nikolaevich, Doroshkevich Sergei Iurevich, Petrikova Elizaveta Alekseevna, Vorobev Maksim Sergeevich, Ashurova Kamilla Takhirovna, Teresov Anton Dmitrievich, Iakovlev Vladislav Viktorovich, Koval Tamara Vasilevna, Moskvin Pavel Vladimirovich
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator Shin Vladislav Igorevich
Koval Nikolai Nikolaevich
Doroshkevich Sergei Iurevich
Petrikova Elizaveta Alekseevna
Vorobev Maksim Sergeevich
Ashurova Kamilla Takhirovna
Teresov Anton Dmitrievich
Iakovlev Vladislav Viktorovich
Koval Tamara Vasilevna
Moskvin Pavel Vladimirovich
description FIELD: electricity.SUBSTANCE: invention relates to a method for generating an electron beam for electron-beam surface treatment of metallic materials. An electron source with a plasma cathode with a grid stabilization of the emission plasma boundary and a plasma anode with an open plasma boundary is used, an electron beam current is generated with an amplitude (5-500 A), at an electron energy (5-30 keV), with a beam diameter (5-100 mm ), and the energy density of the beam (5-200 J / cm2), the power density of which varies in the range (2 × 103-106 W / cm2) during a pulse of micro- and submillisecond duration (10-1000 mcs) in the mode of its single pulses by amplitude and width modulation of the beam, suitable for controlling the rate of heating, melting and cooling of the surface layer of metallic materials.EFFECT: possibility of controlled input of energy into the surface of metal, regardless of the weight of the workpiece, as well as high energy efficiency and productivity of the process of cleaning the surface of the workpiece, its heating and modification in a single pulse of submillisecond duration.1 cl, 6 dwg, 1 tbl Изобретение относится к способу генерации электронного пучка для электронно-пучковой обработки поверхности металлических материалов. Используют источник электронов с плазменным катодом с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы и плазменным анодом с открытой границей плазмы, генерируют ток электронного пучка амплитудой (5-500 А), при энергии электронов (5-30 кэВ), с диаметром пучка (5-100 мм), и плотности энергии пучка (5-200 Дж/см2), плотность мощности которого варьируют в диапазоне (2·103-106Вт/см2) в течение импульса микро- и субмиллисекундной длительности (10-1000 мкс) в режиме его одиночных импульсов путем амплитудной и широтной модуляции пучка, пригодного для управления скоростью нагрева, плавления и остывания поверхностного слоя металлических материалов. Техническим результатом является возможность контролируемого ввода энергии в поверхность металлических независимо от массы обрабатываемого изделия, а также высокая энергетическая эффективность и производительность процесса очистки поверхности обрабатываемого изделия, ее нагрева и модификации в едином импульсе субмиллисекундной длительности. 6 ил., 1 табл.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_RU2746265C1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>RU2746265C1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_RU2746265C13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNyrsKwkAQRuFtLER9h3kBC6PGelz_NYG9wGSSNgRZK9FAfH9UsLGzOhz45qaDh1VJkY7gQGdECGv9_gCt0olcEvo1KmANiErJfRR7CqyQmn1DTSuOLZZmdh1uU159uzDkoLZa5_HR52kcLvmen720xWFXFuXebrZ_kBccXDBK</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>ELECTRON BEAM GENERATION METHOD FOR ELECTRON BEAM TREATMENT OF METAL MATERIALS SURFACE</title><source>esp@cenet</source><creator>Shin Vladislav Igorevich ; Koval Nikolai Nikolaevich ; Doroshkevich Sergei Iurevich ; Petrikova Elizaveta Alekseevna ; Vorobev Maksim Sergeevich ; Ashurova Kamilla Takhirovna ; Teresov Anton Dmitrievich ; Iakovlev Vladislav Viktorovich ; Koval Tamara Vasilevna ; Moskvin Pavel Vladimirovich</creator><creatorcontrib>Shin Vladislav Igorevich ; Koval Nikolai Nikolaevich ; Doroshkevich Sergei Iurevich ; Petrikova Elizaveta Alekseevna ; Vorobev Maksim Sergeevich ; Ashurova Kamilla Takhirovna ; Teresov Anton Dmitrievich ; Iakovlev Vladislav Viktorovich ; Koval Tamara Vasilevna ; Moskvin Pavel Vladimirovich</creatorcontrib><description>FIELD: electricity.SUBSTANCE: invention relates to a method for generating an electron beam for electron-beam surface treatment of metallic materials. An electron source with a plasma cathode with a grid stabilization of the emission plasma boundary and a plasma anode with an open plasma boundary is used, an electron beam current is generated with an amplitude (5-500 A), at an electron energy (5-30 keV), with a beam diameter (5-100 mm ), and the energy density of the beam (5-200 J / cm2), the power density of which varies in the range (2 × 103-106 W / cm2) during a pulse of micro- and submillisecond duration (10-1000 mcs) in the mode of its single pulses by amplitude and width modulation of the beam, suitable for controlling the rate of heating, melting and cooling of the surface layer of metallic materials.EFFECT: possibility of controlled input of energy into the surface of metal, regardless of the weight of the workpiece, as well as high energy efficiency and productivity of the process of cleaning the surface of the workpiece, its heating and modification in a single pulse of submillisecond duration.1 cl, 6 dwg, 1 tbl Изобретение относится к способу генерации электронного пучка для электронно-пучковой обработки поверхности металлических материалов. Используют источник электронов с плазменным катодом с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы и плазменным анодом с открытой границей плазмы, генерируют ток электронного пучка амплитудой (5-500 А), при энергии электронов (5-30 кэВ), с диаметром пучка (5-100 мм), и плотности энергии пучка (5-200 Дж/см2), плотность мощности которого варьируют в диапазоне (2·103-106Вт/см2) в течение импульса микро- и субмиллисекундной длительности (10-1000 мкс) в режиме его одиночных импульсов путем амплитудной и широтной модуляции пучка, пригодного для управления скоростью нагрева, плавления и остывания поверхностного слоя металлических материалов. Техническим результатом является возможность контролируемого ввода энергии в поверхность металлических независимо от массы обрабатываемого изделия, а также высокая энергетическая эффективность и производительность процесса очистки поверхности обрабатываемого изделия, ее нагрева и модификации в едином импульсе субмиллисекундной длительности. 6 ил., 1 табл.</description><language>eng ; rus</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; PLASMA TECHNIQUE ; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS ; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210412&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2746265C1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210412&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2746265C1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Shin Vladislav Igorevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Koval Nikolai Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Doroshkevich Sergei Iurevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Petrikova Elizaveta Alekseevna</creatorcontrib><creatorcontrib>Vorobev Maksim Sergeevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Ashurova Kamilla Takhirovna</creatorcontrib><creatorcontrib>Teresov Anton Dmitrievich</creatorcontrib><creatorcontrib>Iakovlev Vladislav Viktorovich</creatorcontrib><creatorcontrib>Koval Tamara Vasilevna</creatorcontrib><creatorcontrib>Moskvin Pavel Vladimirovich</creatorcontrib><title>ELECTRON BEAM GENERATION METHOD FOR ELECTRON BEAM TREATMENT OF METAL MATERIALS SURFACE</title><description>FIELD: electricity.SUBSTANCE: invention relates to a method for generating an electron beam for electron-beam surface treatment of metallic materials. An electron source with a plasma cathode with a grid stabilization of the emission plasma boundary and a plasma anode with an open plasma boundary is used, an electron beam current is generated with an amplitude (5-500 A), at an electron energy (5-30 keV), with a beam diameter (5-100 mm ), and the energy density of the beam (5-200 J / cm2), the power density of which varies in the range (2 × 103-106 W / cm2) during a pulse of micro- and submillisecond duration (10-1000 mcs) in the mode of its single pulses by amplitude and width modulation of the beam, suitable for controlling the rate of heating, melting and cooling of the surface layer of metallic materials.EFFECT: possibility of controlled input of energy into the surface of metal, regardless of the weight of the workpiece, as well as high energy efficiency and productivity of the process of cleaning the surface of the workpiece, its heating and modification in a single pulse of submillisecond duration.1 cl, 6 dwg, 1 tbl Изобретение относится к способу генерации электронного пучка для электронно-пучковой обработки поверхности металлических материалов. Используют источник электронов с плазменным катодом с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы и плазменным анодом с открытой границей плазмы, генерируют ток электронного пучка амплитудой (5-500 А), при энергии электронов (5-30 кэВ), с диаметром пучка (5-100 мм), и плотности энергии пучка (5-200 Дж/см2), плотность мощности которого варьируют в диапазоне (2·103-106Вт/см2) в течение импульса микро- и субмиллисекундной длительности (10-1000 мкс) в режиме его одиночных импульсов путем амплитудной и широтной модуляции пучка, пригодного для управления скоростью нагрева, плавления и остывания поверхностного слоя металлических материалов. Техническим результатом является возможность контролируемого ввода энергии в поверхность металлических независимо от массы обрабатываемого изделия, а также высокая энергетическая эффективность и производительность процесса очистки поверхности обрабатываемого изделия, ее нагрева и модификации в едином импульсе субмиллисекундной длительности. 6 ил., 1 табл.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>PLASMA TECHNIQUE</subject><subject>PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS</subject><subject>PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNyrsKwkAQRuFtLER9h3kBC6PGelz_NYG9wGSSNgRZK9FAfH9UsLGzOhz45qaDh1VJkY7gQGdECGv9_gCt0olcEvo1KmANiErJfRR7CqyQmn1DTSuOLZZmdh1uU159uzDkoLZa5_HR52kcLvmen720xWFXFuXebrZ_kBccXDBK</recordid><startdate>20210412</startdate><enddate>20210412</enddate><creator>Shin Vladislav Igorevich</creator><creator>Koval Nikolai Nikolaevich</creator><creator>Doroshkevich Sergei Iurevich</creator><creator>Petrikova Elizaveta Alekseevna</creator><creator>Vorobev Maksim Sergeevich</creator><creator>Ashurova Kamilla Takhirovna</creator><creator>Teresov Anton Dmitrievich</creator><creator>Iakovlev Vladislav Viktorovich</creator><creator>Koval Tamara Vasilevna</creator><creator>Moskvin Pavel Vladimirovich</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210412</creationdate><title>ELECTRON BEAM GENERATION METHOD FOR ELECTRON BEAM TREATMENT OF METAL MATERIALS SURFACE</title><author>Shin Vladislav Igorevich ; Koval Nikolai Nikolaevich ; Doroshkevich Sergei Iurevich ; Petrikova Elizaveta Alekseevna ; Vorobev Maksim Sergeevich ; Ashurova Kamilla Takhirovna ; Teresov Anton Dmitrievich ; Iakovlev Vladislav Viktorovich ; Koval Tamara Vasilevna ; Moskvin Pavel Vladimirovich</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_RU2746265C13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; rus</language><creationdate>2021</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>PLASMA TECHNIQUE</topic><topic>PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS</topic><topic>PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Shin Vladislav Igorevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Koval Nikolai Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Doroshkevich Sergei Iurevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Petrikova Elizaveta Alekseevna</creatorcontrib><creatorcontrib>Vorobev Maksim Sergeevich</creatorcontrib><creatorcontrib>Ashurova Kamilla Takhirovna</creatorcontrib><creatorcontrib>Teresov Anton Dmitrievich</creatorcontrib><creatorcontrib>Iakovlev Vladislav Viktorovich</creatorcontrib><creatorcontrib>Koval Tamara Vasilevna</creatorcontrib><creatorcontrib>Moskvin Pavel Vladimirovich</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Shin Vladislav Igorevich</au><au>Koval Nikolai Nikolaevich</au><au>Doroshkevich Sergei Iurevich</au><au>Petrikova Elizaveta Alekseevna</au><au>Vorobev Maksim Sergeevich</au><au>Ashurova Kamilla Takhirovna</au><au>Teresov Anton Dmitrievich</au><au>Iakovlev Vladislav Viktorovich</au><au>Koval Tamara Vasilevna</au><au>Moskvin Pavel Vladimirovich</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ELECTRON BEAM GENERATION METHOD FOR ELECTRON BEAM TREATMENT OF METAL MATERIALS SURFACE</title><date>2021-04-12</date><risdate>2021</risdate><abstract>FIELD: electricity.SUBSTANCE: invention relates to a method for generating an electron beam for electron-beam surface treatment of metallic materials. An electron source with a plasma cathode with a grid stabilization of the emission plasma boundary and a plasma anode with an open plasma boundary is used, an electron beam current is generated with an amplitude (5-500 A), at an electron energy (5-30 keV), with a beam diameter (5-100 mm ), and the energy density of the beam (5-200 J / cm2), the power density of which varies in the range (2 × 103-106 W / cm2) during a pulse of micro- and submillisecond duration (10-1000 mcs) in the mode of its single pulses by amplitude and width modulation of the beam, suitable for controlling the rate of heating, melting and cooling of the surface layer of metallic materials.EFFECT: possibility of controlled input of energy into the surface of metal, regardless of the weight of the workpiece, as well as high energy efficiency and productivity of the process of cleaning the surface of the workpiece, its heating and modification in a single pulse of submillisecond duration.1 cl, 6 dwg, 1 tbl Изобретение относится к способу генерации электронного пучка для электронно-пучковой обработки поверхности металлических материалов. Используют источник электронов с плазменным катодом с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы и плазменным анодом с открытой границей плазмы, генерируют ток электронного пучка амплитудой (5-500 А), при энергии электронов (5-30 кэВ), с диаметром пучка (5-100 мм), и плотности энергии пучка (5-200 Дж/см2), плотность мощности которого варьируют в диапазоне (2·103-106Вт/см2) в течение импульса микро- и субмиллисекундной длительности (10-1000 мкс) в режиме его одиночных импульсов путем амплитудной и широтной модуляции пучка, пригодного для управления скоростью нагрева, плавления и остывания поверхностного слоя металлических материалов. Техническим результатом является возможность контролируемого ввода энергии в поверхность металлических независимо от массы обрабатываемого изделия, а также высокая энергетическая эффективность и производительность процесса очистки поверхности обрабатываемого изделия, ее нагрева и модификации в едином импульсе субмиллисекундной длительности. 6 ил., 1 табл.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; rus
recordid cdi_epo_espacenet_RU2746265C1
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
PLASMA TECHNIQUE
PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS
PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS
title ELECTRON BEAM GENERATION METHOD FOR ELECTRON BEAM TREATMENT OF METAL MATERIALS SURFACE
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-03T09%3A23%3A35IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Shin%20Vladislav%20Igorevich&rft.date=2021-04-12&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3ERU2746265C1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true