TREATMENT OF PSORIASIS OF NAIL PLATES
FIELD: medicine.SUBSTANCE: invention relates to medicine, namely to dermatovenereology, and can be used to treat psoriasis of nail plates. Irradiation of the affected nail plates with psoriasis in the region of the hands and/or feet is carried out at a wavelength of 308 nm, which is produced by the...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: medicine.SUBSTANCE: invention relates to medicine, namely to dermatovenereology, and can be used to treat psoriasis of nail plates. Irradiation of the affected nail plates with psoriasis in the region of the hands and/or feet is carried out at a wavelength of 308 nm, which is produced by the XeCl excimer lamp. Influenced with a frequency of 3 times during a five-day workweek. Effects after a day with a duration of exposure of 30 seconds in the first sessions with an increase in the exposure time at each 3rd session for 5 seconds, until the exposure time reaches 1.5 minutes. Effect is carried out at a distance of 2-3 cm from the radiation source.EFFECT: method provides for stable rehabilitation of patients, an increase in the period of convalescence due to a decrease in excess DNA synthesis, a decrease in the proliferation of epidermal cells and the normalization of keratinization processes.1 cl, 2 ex
Изобретение относится к медицине, в частности к дерматовенерологии, и может быть использовано для лечения псориаза ногтевых пластинок. Облучение пораженных ногтевых пластинок при псориазе в области кистей и/или стоп проводят на длине волны 308 нм, которое продуцируется XeCl эксимерной лампой. Воздействуют с частотой 3 раза в течение пятидневной рабочей недели. Воздействуют через день с длительностью воздействия 30 сек на первых сеансах с увеличением времени воздействия на каждом 3-м сеансе на 5 сек, до достижения времени воздействия 1,5 мин. Воздействие осуществляют на расстоянии 2-3 см от источника излучения. Способ обеспечивает стойкую реабилитацию больных, увеличение периода реконвалесценции за счет снижения избыточного синтеза ДНК, уменьшения пролиферации клеток эпидермиса и нормализации процессов кератинизации. 2 пр. |
---|