METHOD OF OBTAINING NANOLITHOGRAPHIC FIGURES WITH FRACTAL STRUCTURE WITH A SUPERSTRUCTURED SURFACE

FIELD: physics.SUBSTANCE: using the method of local anodic oxidation by applying a voltage between the moving probe of the scanning probe microscope and the semiconductor substrate, a nanolithographic pattern is formed, additionally a film-forming sol based on alkoxy silicon compounds is produced, which is obtained in the framework of sol-gel technology, then annealed, as a result, fractal structures with a super-developed surface are formed in places of local anodic oxidation.EFFECT: ensuring the possibility of forming nanolithographic patterns with a fractal structure with a super-developed surface.3 dwg Использование: для получения нанолитографических рисунков с фрактальной структурой со сверхразвитой поверхностью. Сущность изобретения заключается в том, что способ заключается в том, что с помощью метода локального анодного окисления путем приложения напряжения между перемещающимся зондом сканирующего зондового микроскопа и полупроводниковой подложкой формируется нанолитографический рисунок, дополнительно на подложку наносят пленкообразующий золь на основе алкоксисоединений кремния, полученный в рамках методов золь-гель технологии, после чего проводят отжиг, в результате чего в местах проведения локального анодного окисления образуются фрактальные структуры со сверхразвитой поверхностью. Технический результат: обеспечение возможности формирования нанолитографических рисунков с фрактальной структурой со сверхразвитой поверхностью. 3 ил.