DIFFRACTION PERIODIC MICROSTRUCTURE BASED ON POROUS SILICON

FIELD: chemistry.SUBSTANCE: invention relates to diffraction periodic microstructures for visible range, based on porous silicon. In diffraction periodic microstructure based on porous silicon, comprising a substrate, made of monocrystalline silicon with a diffraction periodic microstructure, formed diffraction periodic microstructure based on porous silicon comprises ion-synthesised metal-containing nanoparticles, dispersed in surface region of substrate at layer thickness from 10 to 200 nm with metal concentration of 2.5·10-6.5·10atoms/cm.EFFECT: technical effect consists in creation of a diffraction periodic microstructure based on porous silicon with different metal-containing nanoparticles.1 cl, 20 dwg Изобретение относится к устройствам дифракционных периодических микроструктур для видимого диапазона, выполненным на основе пористого кремния. Техническим результатом изобретения является создание дифракционной периодической микроструктуры на основе пористого кремния с различными металлосодержащими наночастицами. В дифракционной периодической микроструктуре на основе пористого кремния, содержащей подложку, выполненную из монокристаллического кремния с дифракционной периодической микроструктурой, сформированная дифракционная периодическая микроструктура на основе пористого кремния содержит ионно-синтезированные металлосодержащие наночастицы, диспергированные в приповерхностной области подложки на толщине слоя от 10 до 200 нм при концентрации металла 2.5·10-6.5·10атомов/см. 20 ил.