FLASH MEMORY ELEMENT FOR ELECTRICALLY PROGRAMMABLE READ-ONLY MEMORY

FIELD: instrument making.SUBSTANCE: flash memory element for electrically programmable read-only memory is intended for storage of information when power supply is switched off. On semiconductor substrate with source and drain between latter there is a tunnel layer, an additional tunnel layer, a mem...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH, ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH, NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH, GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH
ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH
NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH
GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH
description FIELD: instrument making.SUBSTANCE: flash memory element for electrically programmable read-only memory is intended for storage of information when power supply is switched off. On semiconductor substrate with source and drain between latter there is a tunnel layer, an additional tunnel layer, a memory layer, a blocking layer and a gate. Additional tunnel and blocking layer are made from material with high permittivity, from 5 to 2,000 exceeding permittivity of material of tunnel layer made of SiO. Memory layer is made in form of graphene.EFFECT: prolonged storage of charge, increased memory window to 7 V, possibility of injection of positive and negative charge, reduced time for recording/deleting information, prolonging information storage time to 12 years.6 cl, 4 dwg Флэш элемент памяти электрически перепрограммируемого постоянного запоминающего устройства предназначен для хранения информации при отключенном питании. На полупроводниковой подложке с истоком и стоком между последними выполнены туннельный слой, дополнительный туннельный слой, запоминающий слой, блокирующий слой и затвор. При этом дополнительный туннельный и блокирующий слои выполнены из материала с высоким значением диэлектрической проницаемости, от 5 до 2000, превосходящим диэлектрическую проницаемость материала туннельного слоя, выполненного из SiO. Запоминающий слой выполнен в виде графена. В результате обеспечивается увеличение времени хранение заряда, увеличение окна памяти до 7 В, возможность инжекции положительного и отрицательного заряда, снижение времени записи/стирания информации, увеличение времени хранения информации до 12 лет. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_RU2584728C1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>RU2584728C1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_RU2584728C13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHB283EM9lDwdfX1D4pUcPVx9XX1C1Fw8w8CsZ1DgjydHX18IhUCgvzdgxx9fR2dfFwVglwdXXT9_YDCEG08DKxpiTnFqbxQmptBwc01xNlDN7UgPz61uCAxOTUvtSQ-KNTI1MLE3MjC2dCYCCUA7AordA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>FLASH MEMORY ELEMENT FOR ELECTRICALLY PROGRAMMABLE READ-ONLY MEMORY</title><source>esp@cenet</source><creator>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH ; ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH ; NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH ; GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</creator><creatorcontrib>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH ; ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH ; NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH ; GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</creatorcontrib><description>FIELD: instrument making.SUBSTANCE: flash memory element for electrically programmable read-only memory is intended for storage of information when power supply is switched off. On semiconductor substrate with source and drain between latter there is a tunnel layer, an additional tunnel layer, a memory layer, a blocking layer and a gate. Additional tunnel and blocking layer are made from material with high permittivity, from 5 to 2,000 exceeding permittivity of material of tunnel layer made of SiO. Memory layer is made in form of graphene.EFFECT: prolonged storage of charge, increased memory window to 7 V, possibility of injection of positive and negative charge, reduced time for recording/deleting information, prolonging information storage time to 12 years.6 cl, 4 dwg Флэш элемент памяти электрически перепрограммируемого постоянного запоминающего устройства предназначен для хранения информации при отключенном питании. На полупроводниковой подложке с истоком и стоком между последними выполнены туннельный слой, дополнительный туннельный слой, запоминающий слой, блокирующий слой и затвор. При этом дополнительный туннельный и блокирующий слои выполнены из материала с высоким значением диэлектрической проницаемости, от 5 до 2000, превосходящим диэлектрическую проницаемость материала туннельного слоя, выполненного из SiO. Запоминающий слой выполнен в виде графена. В результате обеспечивается увеличение времени хранение заряда, увеличение окна памяти до 7 В, возможность инжекции положительного и отрицательного заряда, снижение времени записи/стирания информации, увеличение времени хранения информации до 12 лет. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.</description><language>eng ; rus</language><subject>ELECTRICITY ; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF ; NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS,MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES ASDISCRETE UNITS ; NANOTECHNOLOGY ; PERFORMING OPERATIONS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20160520&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2584728C1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20160520&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2584728C1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</creatorcontrib><title>FLASH MEMORY ELEMENT FOR ELECTRICALLY PROGRAMMABLE READ-ONLY MEMORY</title><description>FIELD: instrument making.SUBSTANCE: flash memory element for electrically programmable read-only memory is intended for storage of information when power supply is switched off. On semiconductor substrate with source and drain between latter there is a tunnel layer, an additional tunnel layer, a memory layer, a blocking layer and a gate. Additional tunnel and blocking layer are made from material with high permittivity, from 5 to 2,000 exceeding permittivity of material of tunnel layer made of SiO. Memory layer is made in form of graphene.EFFECT: prolonged storage of charge, increased memory window to 7 V, possibility of injection of positive and negative charge, reduced time for recording/deleting information, prolonging information storage time to 12 years.6 cl, 4 dwg Флэш элемент памяти электрически перепрограммируемого постоянного запоминающего устройства предназначен для хранения информации при отключенном питании. На полупроводниковой подложке с истоком и стоком между последними выполнены туннельный слой, дополнительный туннельный слой, запоминающий слой, блокирующий слой и затвор. При этом дополнительный туннельный и блокирующий слои выполнены из материала с высоким значением диэлектрической проницаемости, от 5 до 2000, превосходящим диэлектрическую проницаемость материала туннельного слоя, выполненного из SiO. Запоминающий слой выполнен в виде графена. В результате обеспечивается увеличение времени хранение заряда, увеличение окна памяти до 7 В, возможность инжекции положительного и отрицательного заряда, снижение времени записи/стирания информации, увеличение времени хранения информации до 12 лет. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.</description><subject>ELECTRICITY</subject><subject>MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF</subject><subject>NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS,MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES ASDISCRETE UNITS</subject><subject>NANOTECHNOLOGY</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHB283EM9lDwdfX1D4pUcPVx9XX1C1Fw8w8CsZ1DgjydHX18IhUCgvzdgxx9fR2dfFwVglwdXXT9_YDCEG08DKxpiTnFqbxQmptBwc01xNlDN7UgPz61uCAxOTUvtSQ-KNTI1MLE3MjC2dCYCCUA7AordA</recordid><startdate>20160520</startdate><enddate>20160520</enddate><creator>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH</creator><creator>ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH</creator><creator>NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH</creator><creator>GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20160520</creationdate><title>FLASH MEMORY ELEMENT FOR ELECTRICALLY PROGRAMMABLE READ-ONLY MEMORY</title><author>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH ; ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH ; NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH ; GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_RU2584728C13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; rus</language><creationdate>2016</creationdate><topic>ELECTRICITY</topic><topic>MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF</topic><topic>NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS,MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES ASDISCRETE UNITS</topic><topic>NANOTECHNOLOGY</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KRASNIKOV GENNADIJ JAKOVLEVICH</au><au>ORLOV OLEG MIKHAJLOVICH</au><au>NOVIKOV JURIJ NIKOLAEVICH</au><au>GRITSENKO VLADIMIR ALEKSEEVICH</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>FLASH MEMORY ELEMENT FOR ELECTRICALLY PROGRAMMABLE READ-ONLY MEMORY</title><date>2016-05-20</date><risdate>2016</risdate><abstract>FIELD: instrument making.SUBSTANCE: flash memory element for electrically programmable read-only memory is intended for storage of information when power supply is switched off. On semiconductor substrate with source and drain between latter there is a tunnel layer, an additional tunnel layer, a memory layer, a blocking layer and a gate. Additional tunnel and blocking layer are made from material with high permittivity, from 5 to 2,000 exceeding permittivity of material of tunnel layer made of SiO. Memory layer is made in form of graphene.EFFECT: prolonged storage of charge, increased memory window to 7 V, possibility of injection of positive and negative charge, reduced time for recording/deleting information, prolonging information storage time to 12 years.6 cl, 4 dwg Флэш элемент памяти электрически перепрограммируемого постоянного запоминающего устройства предназначен для хранения информации при отключенном питании. На полупроводниковой подложке с истоком и стоком между последними выполнены туннельный слой, дополнительный туннельный слой, запоминающий слой, блокирующий слой и затвор. При этом дополнительный туннельный и блокирующий слои выполнены из материала с высоким значением диэлектрической проницаемости, от 5 до 2000, превосходящим диэлектрическую проницаемость материала туннельного слоя, выполненного из SiO. Запоминающий слой выполнен в виде графена. В результате обеспечивается увеличение времени хранение заряда, увеличение окна памяти до 7 В, возможность инжекции положительного и отрицательного заряда, снижение времени записи/стирания информации, увеличение времени хранения информации до 12 лет. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; rus
recordid cdi_epo_espacenet_RU2584728C1
source esp@cenet
subjects ELECTRICITY
MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS,MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES ASDISCRETE UNITS
NANOTECHNOLOGY
PERFORMING OPERATIONS
TRANSPORTING
title FLASH MEMORY ELEMENT FOR ELECTRICALLY PROGRAMMABLE READ-ONLY MEMORY
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-11T19%3A38%3A25IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=KRASNIKOV%20GENNADIJ%20JAKOVLEVICH&rft.date=2016-05-20&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3ERU2584728C1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true