METHOD FOR PRODUCTION OF SILICON MICROCHANNEL MEMBRANE IN MONOLITHIC FRAMING

FIELD: nanotechnologies. ^ SUBSTANCE: invention relates to the field of membrane technologies and industry of nanosystems, and may be used in production of micro- and nanofluid filters, biosensor devices, medical diagnostics instruments. Concept of the invention is as follows: in method for production of silicon microchannel membrane in monolithic framing, anode etching of single-crystal silicon plate of hole type with seed pits on surface in solution of electrolytes, containing ions of hydrogen and fluoride is interrupted with electric polishing and further removal of sacrificial microchannel membrane, afterwards anode etching is restored. ^ EFFECT: improved coefficient of transparency and mechanical strength of membranes, better operational characteristics and expanded assortment of items. ^ 4 cl, 5 dwg, 2 ex Изобретение относится к области мембранных технологий и индустрии наносистем и может быть использовано в производстве микро- и нанофлюидных фильтров, биосенсорных устройств, приборов медицинской диагностики. Сущность изобретения: в способе получения кремниевой микроканальной мембраны в монолитном обрамлении анодное травление пластины монокристаллического кремния дырочного типа с затравочными ямками на поверхности в растворе электролитов, содержащем ионы водорода и фтора, прерывают электрополировкой и последующим удалением жертвенной микроканальной мембраны, после чего возобновляют анодное травление. Повышаются коэффициент прозрачности и механическая прочность мембран, улучшаются эксплуатационные характеристики, и расширяется номенклатура изделий. 3 з.п. ф-лы, 5 ил.