OXY-FLUORO-NANOCARBON SENSITIVE LAYERS FOR RESISTIVE DETECTION OF HUMIDITY

The invention relates to a resistive sensor based on sensitive oxy-fluoro-nanocarbon layers to be used in monitoring relative humidity in closed spaces of many fields of activity, such as domestic activity and also industrial, namely wood and paper industry, pharmaceutical industry, electronics, agriculture and the like. According to the invention, the sensor comprises the following components: a. a dielectric substrate consisting of Si/SiO2, with a thickness in the range of 50 μ m...5 mm, b. metal electrodes with linear or interdigitated configuration, made of the same material, Cr or Al, or of different materials, which are deposited onto the surface of the dielectric substrate by direct printing, cathode sputtering or evaporation, and c. a sensitive layer consisting of a thin film of ox - CNHs - F or ox - CNOs - F, where the mass percentage of F varies between 2...5% and the oxygen percentage between 10...15%, which can be synthesized from CNHs in the following sequences: 1. treatment in Ar-O2 plasma and 2. treatment in F2-N2 plasma, and the sequences: 3. treatment in F2-N2 plasma and 4. treatment in Ar-O2 plasma, respectively, or a sensitive layer made of binary nanocomposites of the type ox - CNHs - F/ox - CNOs - F in which the two oxy-fluorinated nanocarbon structures are in equimass ratio, the sensitive layer deposition onto the Si/SiO2 dielectric substrate being made from an isopropyl alcohol solution, by drop casting. Invenţia se referă la un senzor rezistiv pe bază de straturi senzitive oxifluoronanocarbonice utilizat pentru monitorizarea umidităţii relative în spaţiile închise ale multiplelor domenii de activitate cum este cea casnică dar şi industrială, respectiv industria prelucrării lemnului şi a hârtiei, industria farmaceutică, electronică, în agricultură şi în alte domenii asemenea. Senzorul conform invenţiei este alcătuit din următoarele componente: a. un substrat dielectric construit din Si/SiO2 cu grosimea cuprinsă între 50 μ m şi 5 mm, b. electrozi metalici, cu configuraţie liniară sau interdigitată, care pot fi constituiţi din acelaşi material de Cr sau Al sau din materiale diferite şi care sunt depuşi pe suprafaţa substratului dielectric prin printare directă, pulverizare catodică sau prin evaporare şi c. un strat senzitiv constituit dintr-un film subţire de ox-CNHs-F sau ox-CNOs-F în care procentul masic de F variază între 2...5% iar cel de oxigen între 10...15% şi care se pot sintetiza din CNHs prin secvenţele: 1. tratament în plasm