ELECTRODEPOSITION COATING MATERIAL CONTAINING CATECHOL DERIVATIVES AS ANTICORROSION AGENTS

The present invention relates to an electrodepositable coating material comprising one or more cathodically electrodepositable resins (A); one or more crosslinking agents (B); and one or more compounds represented by formula (I) wherein R1= H or OH; R2= a divalent radical selected from the group consisting of *C(O)-O, (HO)*CH-CH2 or *CH2-CH2, with * denoting the carbon atom which is bound to the benzene ring; and R3= a monovalent radical selected from the group consisting of NH2, (H3N+) X-, NHR4, (+NH2R4) X-, or R4, wherein X is the anion of an organic or inorganic acid and R4 a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. A further object of the present invention is a method of coating a metallic substrate comprising the steps of dipping a metallic substrate into an electrodeposition bath containing the electrodepositable coating material of the present invention; switching the substrate as a cathode; depositing the electrodepositable coating material onto the substrate to form a coating layer; and drying and curing the thus formed coating layer. Further objects of the invention are the use of compounds of formula (I) as anticorrosion agents in electrodeposition paints and coated substrates, coated according to the method of the invention. La presente invención se relaciona con un material de recubrimiento electrodepositable que comprende una o más resinas catódicamente electrodepositables (A); uno o más agentes reticulantes (B); y uno o más compuestos representados por la fórmula (I) (ver Fórmula) (I) en donde R1 = H u OH; R2 = un radical divalente seleccionado del grupo que consiste en *C(O)-O, (HO)*CH-CH2 o *CH2-CH2, donde * denota el átomo de carbono que está unido al anillo de benceno; y R3 = un radical monovalente seleccionado del grupo que consiste en NH2, (H3N+) X-, NHR4, (+NH2R4) X-, o R4, en donde X es el anión de un ácido orgánico o inorgánico y R4 un grupo alquilo lineal o ramificado que tiene de 1 a 6 átomos de carbono. Otro objetivo de la presente invención es un método para el recubrimiento de un sustrato metálico que comprende las etapas de sumergir un sustrato metálico en un baño de electrodeposición que contiene el material de recubrimiento electrodepositable de la presente invención; cambiar el sustrato como cátodo; depositar el material de recubrimiento electrodepositable sobre el sustrato para formar una capa de recubrimiento; y secar y curar la capa de recubrimiento así formada. Otros objetivos de la invención son el us