SYSTEM FOR PROCESSING CAPACITIVELY COUPLED PLASMA AND PULSE GENERATOR THEREFOR

본 발명은 용량성 결합 플라즈마 처리 시스템 및 그를 위한 펄스 발생 장치에 관한 것이다. 상기 시스템은 지정된 펄스를 생성하며, 소프트 스위칭 동작하는 펄스 발생 장치; 및 상기 펄스 발생 장치에 의해 생성된 펄스 인가 시 플라즈마를 생성하는 용량성 결합 플라즈마 방식의 챔버를 포함하고, 상기 펄스 발생 장치는 상기 챔버에 병렬 연결되는 인덕터를 포함할 수 있다. 이러한 본 발명은 출력에서 스파이크가 발생하는 문제를 방지(또는 억제)하며 스위칭 손실을 저감할 수 있다. 또한, 본 발명은 출력의 음의 전압 구간의 기울기를 정밀하게 제어하며 스위칭 손실을 저감할 수 있다. 이를 통해 본 발명은 용량성 결합 플라즈마 처리 시스템(예: 반도체 제조 설비)의 성능을 개선할 수 있다. The present invention relates to a capacitively coupled plasma processing system and a pulse generating apparatus therefor. The system may include: a pulse generating apparatus for generating a designated pulse and performing a soft switching operation; and a capacitively coupled plasma-type chamber for generating plasma when a pulse generated by the pulse generating apparatus is applied, wherein the pulse generating apparatus includes an inductor connected in parallel to the chamber. The present invention can prevent (or suppress) a problem in which a spike occurs in an output and reduce switching loss. In addition, the present invention can precisely control the slope of the negative voltage section of an output and reduce switching loss. Accordingly, the present invention can improve the performance of a capacitively coupled plasma processing system (e.g., semiconductor manufacturing equipment).