Aligner for producing high-resolution panels

본 발명은 고해상도 패널 생산용 얼라이너에 관한 것으로, 진공챔버의 상부에 설치되는 베이스 프레임과, 상기 진공챔버에 발생하는 진동이 직접 얼라인 스테이지에 전달되지 않도록 진공챔버와 얼라인 스테이지를 분리하기 위해 상기 베이스 프레임의 상부에 설치되는 얼라인 서브 프레임과, 상기 베이스 프레임과 상기 얼라인 서브 프레임 사이에 설치되어 상기 진공챔버에 발생하는 진동을 흡수하여 진동에 의해 얼라인이 틀어지는 것을 방지하기 위한 진동방지 유닛과, 상기 얼라인 서브 프레임의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SUNG WOO JIN, JUNG JAE HOON, CHOI MYONG HWAN, SEO IN YONG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator SUNG WOO JIN
JUNG JAE HOON
CHOI MYONG HWAN
SEO IN YONG
description 본 발명은 고해상도 패널 생산용 얼라이너에 관한 것으로, 진공챔버의 상부에 설치되는 베이스 프레임과, 상기 진공챔버에 발생하는 진동이 직접 얼라인 스테이지에 전달되지 않도록 진공챔버와 얼라인 스테이지를 분리하기 위해 상기 베이스 프레임의 상부에 설치되는 얼라인 서브 프레임과, 상기 베이스 프레임과 상기 얼라인 서브 프레임 사이에 설치되어 상기 진공챔버에 발생하는 진동을 흡수하여 진동에 의해 얼라인이 틀어지는 것을 방지하기 위한 진동방지 유닛과, 상기 얼라인 서브 프레임의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 하부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 상부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제1 검사수단과, 상기 상부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제2 검사수단을 포함함으로써, 고해상도 AR/VR을 구현할 수 있는 증착장비에 적용할 수 있는 나노 얼라이너(Nano aligner) 기술을 내재화하여 기판과 미세 마스크를 서로 정밀하게 일치시키는 고정밀 얼라인을 가능케 하는 효과가 있다.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20240166895A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20240166895A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20240166895A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZNBxzMlMz0stUkjLL1IoKMpPKU3OzEtXyMhMz9AtSi3OzyktyczPUyhIzEvNKeZhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGhmZmFpamjsbEqQIAVIYq_Q</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Aligner for producing high-resolution panels</title><source>esp@cenet</source><creator>SUNG WOO JIN ; JUNG JAE HOON ; CHOI MYONG HWAN ; SEO IN YONG</creator><creatorcontrib>SUNG WOO JIN ; JUNG JAE HOON ; CHOI MYONG HWAN ; SEO IN YONG</creatorcontrib><description>본 발명은 고해상도 패널 생산용 얼라이너에 관한 것으로, 진공챔버의 상부에 설치되는 베이스 프레임과, 상기 진공챔버에 발생하는 진동이 직접 얼라인 스테이지에 전달되지 않도록 진공챔버와 얼라인 스테이지를 분리하기 위해 상기 베이스 프레임의 상부에 설치되는 얼라인 서브 프레임과, 상기 베이스 프레임과 상기 얼라인 서브 프레임 사이에 설치되어 상기 진공챔버에 발생하는 진동을 흡수하여 진동에 의해 얼라인이 틀어지는 것을 방지하기 위한 진동방지 유닛과, 상기 얼라인 서브 프레임의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 하부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 상부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제1 검사수단과, 상기 상부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제2 검사수단을 포함함으로써, 고해상도 AR/VR을 구현할 수 있는 증착장비에 적용할 수 있는 나노 얼라이너(Nano aligner) 기술을 내재화하여 기판과 미세 마스크를 서로 정밀하게 일치시키는 고정밀 얼라인을 가능케 하는 효과가 있다.</description><language>eng ; kor</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20241126&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20240166895A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25555,76308</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20241126&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20240166895A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SUNG WOO JIN</creatorcontrib><creatorcontrib>JUNG JAE HOON</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI MYONG HWAN</creatorcontrib><creatorcontrib>SEO IN YONG</creatorcontrib><title>Aligner for producing high-resolution panels</title><description>본 발명은 고해상도 패널 생산용 얼라이너에 관한 것으로, 진공챔버의 상부에 설치되는 베이스 프레임과, 상기 진공챔버에 발생하는 진동이 직접 얼라인 스테이지에 전달되지 않도록 진공챔버와 얼라인 스테이지를 분리하기 위해 상기 베이스 프레임의 상부에 설치되는 얼라인 서브 프레임과, 상기 베이스 프레임과 상기 얼라인 서브 프레임 사이에 설치되어 상기 진공챔버에 발생하는 진동을 흡수하여 진동에 의해 얼라인이 틀어지는 것을 방지하기 위한 진동방지 유닛과, 상기 얼라인 서브 프레임의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 하부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 상부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제1 검사수단과, 상기 상부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제2 검사수단을 포함함으로써, 고해상도 AR/VR을 구현할 수 있는 증착장비에 적용할 수 있는 나노 얼라이너(Nano aligner) 기술을 내재화하여 기판과 미세 마스크를 서로 정밀하게 일치시키는 고정밀 얼라인을 가능케 하는 효과가 있다.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNBxzMlMz0stUkjLL1IoKMpPKU3OzEtXyMhMz9AtSi3OzyktyczPUyhIzEvNKeZhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGhmZmFpamjsbEqQIAVIYq_Q</recordid><startdate>20241126</startdate><enddate>20241126</enddate><creator>SUNG WOO JIN</creator><creator>JUNG JAE HOON</creator><creator>CHOI MYONG HWAN</creator><creator>SEO IN YONG</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20241126</creationdate><title>Aligner for producing high-resolution panels</title><author>SUNG WOO JIN ; JUNG JAE HOON ; CHOI MYONG HWAN ; SEO IN YONG</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240166895A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SUNG WOO JIN</creatorcontrib><creatorcontrib>JUNG JAE HOON</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI MYONG HWAN</creatorcontrib><creatorcontrib>SEO IN YONG</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SUNG WOO JIN</au><au>JUNG JAE HOON</au><au>CHOI MYONG HWAN</au><au>SEO IN YONG</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Aligner for producing high-resolution panels</title><date>2024-11-26</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명은 고해상도 패널 생산용 얼라이너에 관한 것으로, 진공챔버의 상부에 설치되는 베이스 프레임과, 상기 진공챔버에 발생하는 진동이 직접 얼라인 스테이지에 전달되지 않도록 진공챔버와 얼라인 스테이지를 분리하기 위해 상기 베이스 프레임의 상부에 설치되는 얼라인 서브 프레임과, 상기 베이스 프레임과 상기 얼라인 서브 프레임 사이에 설치되어 상기 진공챔버에 발생하는 진동을 흡수하여 진동에 의해 얼라인이 틀어지는 것을 방지하기 위한 진동방지 유닛과, 상기 얼라인 서브 프레임의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 하부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지의 상부에 설치되어 3자유도 구동에 의해 기판과 미세 마스크를 얼라인하는 상부 얼라인 스테이지와, 상기 하부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제1 검사수단과, 상기 상부 얼라인 스테이지에 의한 변위량을 확인하기 위한 제2 검사수단을 포함함으로써, 고해상도 AR/VR을 구현할 수 있는 증착장비에 적용할 수 있는 나노 얼라이너(Nano aligner) 기술을 내재화하여 기판과 미세 마스크를 서로 정밀하게 일치시키는 고정밀 얼라인을 가능케 하는 효과가 있다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; kor
recordid cdi_epo_espacenet_KR20240166895A
source esp@cenet
subjects CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
ELECTRICITY
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
title Aligner for producing high-resolution panels
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-15T07%3A02%3A03IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SUNG%20WOO%20JIN&rft.date=2024-11-26&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20240166895A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true