감광성 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스

하기 식 (1)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리이미드 전구체와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스; Z1은 2개 이상의 에터기와, 벤젠환 구조를 포함하는 유기기, Y1은 유기기, A1 및 A2는 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 -NRZ-, RZ는 수소 원자 또는 유기기, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 유기기, R1 및 R2 중 적어도 하나는 에틸렌성 불포화 결합을...

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1. Verfasser: NOZAKI ATSUYASU
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:하기 식 (1)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리이미드 전구체와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스; Z1은 2개 이상의 에터기와, 벤젠환 구조를 포함하는 유기기, Y1은 유기기, A1 및 A2는 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 -NRZ-, RZ는 수소 원자 또는 유기기, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 유기기, R1 및 R2 중 적어도 하나는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 유기기이다. JPEGpct00075.jpg4071 The present invention provides: a photosensitive resin composition which contains a polyimide precursor that contains a repeating unit represented by formula (1), a polymerizable compound and a photopolymerization initiator; a cured product; a multilayer body; a method for producing a cured product; a method for producing a multilayer body; a method for producing a semiconductor device; and a semiconductor device. In the formula, Z1 represents an organic group which comprises two or more ether groups and a benzene ring structure; Y1 represents an organic group; each of A1 and A2 independently represents an oxygen atom or -NRZ-; RZ represents a hydrogen atom or an organic group; each of R1 and R2 independently represents a hydrogen atom or an organic group; and at least one of R1 and R2 represents an organic group that has an ethylenically unsaturated bond.