METHOD FORMANUFACTURING OF SILICANANO POWDER AND SLURRY FOR CHEMICALMECHANICAL POLISHING OF WAFER

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본 발명은, 실리카 나노 분말 및 웨이퍼의 화학기계 연마용 슬러리 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 의한 실리카 나노 분말 제조 방법의 일 양태에서, 탈이온수, TEOS(Tetraethly orthosilicate), 암모니아수 및 수산화리튬이 에탄올에 혼합된 후 반응하여 실리카 나노 분말이 제조된다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEE DUKHEE, PARK KYUNGSOO, KIM JAECHAN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMISTRY COMPOUNDS THEREOF DYES INORGANIC CHEMISTRY MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS NON-METALLIC ELEMENTS PAINTS POLISHES POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SKI WAXES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은, 실리카 나노 분말 및 웨이퍼의 화학기계 연마용 슬러리 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 의한 실리카 나노 분말 제조 방법의 일 양태에서, 탈이온수, TEOS(Tetraethly orthosilicate), 암모니아수 및 수산화리튬이 에탄올에 혼합된 후 반응하여 실리카 나노 분말이 제조된다.