Apparatus for plasma surface treatment in atmospheric and method for controlling the same
대기 플라즈마 표면 처리장치 및 그 제어방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 대기 플라즈마 표면 처리장치는 대기압 분위기에서 플라즈마 젯을 방출하는 플라즈마 건; 상기 플라즈마 건이 위치되고, 상기 플라즈마 건에서 방출되는 플라즈마 젯에 의해 표면 처리되는 피가공물이 위치되는 작업공간을 형성하며, 피가공물이 작업공간에 인입 또는 이탈되도록 개구된 개구부가 형성되는 하우징; 상기 작업공간 내부로 인입되거나 또는 상기 하우징 외부로 노출되며, 피가공물이 거치되는 거치부; 상기 거치부를 이동시키는 구동부; 상기 구동부에 의해 이동...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 대기 플라즈마 표면 처리장치 및 그 제어방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 대기 플라즈마 표면 처리장치는 대기압 분위기에서 플라즈마 젯을 방출하는 플라즈마 건; 상기 플라즈마 건이 위치되고, 상기 플라즈마 건에서 방출되는 플라즈마 젯에 의해 표면 처리되는 피가공물이 위치되는 작업공간을 형성하며, 피가공물이 작업공간에 인입 또는 이탈되도록 개구된 개구부가 형성되는 하우징; 상기 작업공간 내부로 인입되거나 또는 상기 하우징 외부로 노출되며, 피가공물이 거치되는 거치부; 상기 거치부를 이동시키는 구동부; 상기 구동부에 의해 이동되는 상기 거치부에 밀려 슬라이딩되면서 상기 개구부를 개폐하는 도어뷔 상기 플라즈마 건 및 상기 도어 구동부를 제어하는 제어부;를 포함할 수 있다. |
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