Electropolishing device
본 발명은 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 상기 파이프의 내부로 삽입되어 상기 파이프의 내부를 전해연마로 표면 처리하는 전해연마 전극 장치에 있어서, 전해액이 채워지며, 상기 파이프가 내부에 구비되는 전해조; 상기 파이프의 내부로 삽입되는 교체가능한 회전전극을 포함하는 회전전극부; 및 상기 회전전극부 및 상기 파이프와 연결되며, 상기 회전전극부 및 상기 파이프에 전압을 인가하는 전압인가부를 포함하는 전해연마 장치를 제공한다. 따라서, 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 파이프의 내부로 삽입되는 회전전극이 회전 시 회전전극...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
container_end_page | |
---|---|
container_issue | |
container_start_page | |
container_title | |
container_volume | |
creator | CHANG SUN HO CHOI SEUNG GEON LEE EUN SANG |
description | 본 발명은 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 상기 파이프의 내부로 삽입되어 상기 파이프의 내부를 전해연마로 표면 처리하는 전해연마 전극 장치에 있어서, 전해액이 채워지며, 상기 파이프가 내부에 구비되는 전해조; 상기 파이프의 내부로 삽입되는 교체가능한 회전전극을 포함하는 회전전극부; 및 상기 회전전극부 및 상기 파이프와 연결되며, 상기 회전전극부 및 상기 파이프에 전압을 인가하는 전압인가부를 포함하는 전해연마 장치를 제공한다. 따라서, 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 파이프의 내부로 삽입되는 회전전극이 회전 시 회전전극부에 의해 회전전극과 연결되는 전선이 꼬이는 현상을 방지하여 회전전극이 파이프의 내주면에 말착되는 것을 방지하여 피팅현상이 발생되는 것을 방지할 수 있다. |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20240131930A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20240131930A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20240131930A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZBB3zUlNLinKL8jPySzOyMxLV0hJLctMTuVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGhsaGlsYGjsbEqQIAbKQi9w</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Electropolishing device</title><source>esp@cenet</source><creator>CHANG SUN HO ; CHOI SEUNG GEON ; LEE EUN SANG</creator><creatorcontrib>CHANG SUN HO ; CHOI SEUNG GEON ; LEE EUN SANG</creatorcontrib><description>본 발명은 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 상기 파이프의 내부로 삽입되어 상기 파이프의 내부를 전해연마로 표면 처리하는 전해연마 전극 장치에 있어서, 전해액이 채워지며, 상기 파이프가 내부에 구비되는 전해조; 상기 파이프의 내부로 삽입되는 교체가능한 회전전극을 포함하는 회전전극부; 및 상기 회전전극부 및 상기 파이프와 연결되며, 상기 회전전극부 및 상기 파이프에 전압을 인가하는 전압인가부를 포함하는 전해연마 장치를 제공한다. 따라서, 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 파이프의 내부로 삽입되는 회전전극이 회전 시 회전전극부에 의해 회전전극과 연결되는 전선이 꼬이는 현상을 방지하여 회전전극이 파이프의 내주면에 말착되는 것을 방지하여 피팅현상이 발생되는 것을 방지할 수 있다.</description><language>eng ; kor</language><subject>APPARATUS THEREFOR ; CHEMISTRY ; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES ; METALLURGY ; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROMOBJECTS</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240902&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240131930A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,778,883,25553,76306</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240902&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240131930A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>CHANG SUN HO</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI SEUNG GEON</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE EUN SANG</creatorcontrib><title>Electropolishing device</title><description>본 발명은 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 상기 파이프의 내부로 삽입되어 상기 파이프의 내부를 전해연마로 표면 처리하는 전해연마 전극 장치에 있어서, 전해액이 채워지며, 상기 파이프가 내부에 구비되는 전해조; 상기 파이프의 내부로 삽입되는 교체가능한 회전전극을 포함하는 회전전극부; 및 상기 회전전극부 및 상기 파이프와 연결되며, 상기 회전전극부 및 상기 파이프에 전압을 인가하는 전압인가부를 포함하는 전해연마 장치를 제공한다. 따라서, 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 파이프의 내부로 삽입되는 회전전극이 회전 시 회전전극부에 의해 회전전극과 연결되는 전선이 꼬이는 현상을 방지하여 회전전극이 파이프의 내주면에 말착되는 것을 방지하여 피팅현상이 발생되는 것을 방지할 수 있다.</description><subject>APPARATUS THEREFOR</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROMOBJECTS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBB3zUlNLinKL8jPySzOyMxLV0hJLctMTuVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGhsaGlsYGjsbEqQIAbKQi9w</recordid><startdate>20240902</startdate><enddate>20240902</enddate><creator>CHANG SUN HO</creator><creator>CHOI SEUNG GEON</creator><creator>LEE EUN SANG</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240902</creationdate><title>Electropolishing device</title><author>CHANG SUN HO ; CHOI SEUNG GEON ; LEE EUN SANG</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240131930A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS THEREFOR</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROMOBJECTS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>CHANG SUN HO</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI SEUNG GEON</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE EUN SANG</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>CHANG SUN HO</au><au>CHOI SEUNG GEON</au><au>LEE EUN SANG</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Electropolishing device</title><date>2024-09-02</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명은 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 상기 파이프의 내부로 삽입되어 상기 파이프의 내부를 전해연마로 표면 처리하는 전해연마 전극 장치에 있어서, 전해액이 채워지며, 상기 파이프가 내부에 구비되는 전해조; 상기 파이프의 내부로 삽입되는 교체가능한 회전전극을 포함하는 회전전극부; 및 상기 회전전극부 및 상기 파이프와 연결되며, 상기 회전전극부 및 상기 파이프에 전압을 인가하는 전압인가부를 포함하는 전해연마 장치를 제공한다. 따라서, 파이프의 내부 표면을 전해연마하기 위해 파이프의 내부로 삽입되는 회전전극이 회전 시 회전전극부에 의해 회전전극과 연결되는 전선이 꼬이는 현상을 방지하여 회전전극이 파이프의 내주면에 말착되는 것을 방지하여 피팅현상이 발생되는 것을 방지할 수 있다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | eng ; kor |
recordid | cdi_epo_espacenet_KR20240131930A |
source | esp@cenet |
subjects | APPARATUS THEREFOR CHEMISTRY ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES METALLURGY PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROMOBJECTS |
title | Electropolishing device |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-15T10%3A04%3A50IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=CHANG%20SUN%20HO&rft.date=2024-09-02&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20240131930A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |