DEPOSITION SOURCE FOR VACUUM DEPOSITION DEVICE
과제. 비교적 빠른 증착률로 증착하는 경우에도 증착 보트의 변형을 가급적 억제하여 고 수명화를 도모할 수 있는 진공 처리 장치용 증착원을 제공한다. 해결수단. 증착 재료(Em)의 수용부(31a)를 갖는 보트 본체(31)와 당해 보트 본체의 양단에 각각 돌출하는 전극 장착판부(33)를 갖는 증착 보트(3)와, 보트 본체의 수용부에 대해 그 상방으로부터 와이어 형상의 증착 재료(Em)를 공급하는 재료 공급 수단(6)을 구비하는, 양쪽 전극 장착판부 사이에 통전시킴으로써 보트 본체를 가열하여 수용부 내의 증착 재료를 증발시킨다. 증발 재...
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Format: | Patent |
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creator | KURAUCHI TOSHIHARU SASAKI SHUNSUKE YASUDA MASASHI KIMOTO TAKAHITO |
description | 과제. 비교적 빠른 증착률로 증착하는 경우에도 증착 보트의 변형을 가급적 억제하여 고 수명화를 도모할 수 있는 진공 처리 장치용 증착원을 제공한다. 해결수단. 증착 재료(Em)의 수용부(31a)를 갖는 보트 본체(31)와 당해 보트 본체의 양단에 각각 돌출하는 전극 장착판부(33)를 갖는 증착 보트(3)와, 보트 본체의 수용부에 대해 그 상방으로부터 와이어 형상의 증착 재료(Em)를 공급하는 재료 공급 수단(6)을 구비하는, 양쪽 전극 장착판부 사이에 통전시킴으로써 보트 본체를 가열하여 수용부 내의 증착 재료를 증발시킨다. 증발 재료의 공급에 의해 야기되는 하중이 작용하는, 당해 수용부를 획정하는 보트 본체의 바닥판 부분에 그 하방으로부터 맞닿게 접촉하는 지지수단(8)을 설치하며, 지지 수단은 그 상단을 보트 본체의 바닥판 부분에 맞닿게 접촉시킨 상태로 설치되는 지지판을 갖는다.
An evaporation source for use in a vacuum evaporation apparatus is provided with: an evaporation boat inclusive of a boat main body with a containing part for an evaporation material, and electrode mounting plate parts respectively extending outward from both ends of the boat main body; and material feeding means for feeding a wire-shaped evaporation material into the containing part from an upper side thereof. By charging electric current across both electrode mounting plate parts, the boat main body is heated to evaporate the evaporation material inside the containing part. A supporting means is disposed in contact, from underneath, with such a bottom plate part of the boat main body as defines the containing part. The supporting means has supporting plates disposed in a state in which upper ends of the supporting plates are in contact, from underneath, with the bottom plate part of the boat main body. |
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An evaporation source for use in a vacuum evaporation apparatus is provided with: an evaporation boat inclusive of a boat main body with a containing part for an evaporation material, and electrode mounting plate parts respectively extending outward from both ends of the boat main body; and material feeding means for feeding a wire-shaped evaporation material into the containing part from an upper side thereof. By charging electric current across both electrode mounting plate parts, the boat main body is heated to evaporate the evaporation material inside the containing part. A supporting means is disposed in contact, from underneath, with such a bottom plate part of the boat main body as defines the containing part. The supporting means has supporting plates disposed in a state in which upper ends of the supporting plates are in contact, from underneath, with the bottom plate part of the boat main body.</description><language>eng ; kor</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240828&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240130041A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240828&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240130041A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KURAUCHI TOSHIHARU</creatorcontrib><creatorcontrib>SASAKI SHUNSUKE</creatorcontrib><creatorcontrib>YASUDA MASASHI</creatorcontrib><creatorcontrib>KIMOTO TAKAHITO</creatorcontrib><title>DEPOSITION SOURCE FOR VACUUM DEPOSITION DEVICE</title><description>과제. 비교적 빠른 증착률로 증착하는 경우에도 증착 보트의 변형을 가급적 억제하여 고 수명화를 도모할 수 있는 진공 처리 장치용 증착원을 제공한다. 해결수단. 증착 재료(Em)의 수용부(31a)를 갖는 보트 본체(31)와 당해 보트 본체의 양단에 각각 돌출하는 전극 장착판부(33)를 갖는 증착 보트(3)와, 보트 본체의 수용부에 대해 그 상방으로부터 와이어 형상의 증착 재료(Em)를 공급하는 재료 공급 수단(6)을 구비하는, 양쪽 전극 장착판부 사이에 통전시킴으로써 보트 본체를 가열하여 수용부 내의 증착 재료를 증발시킨다. 증발 재료의 공급에 의해 야기되는 하중이 작용하는, 당해 수용부를 획정하는 보트 본체의 바닥판 부분에 그 하방으로부터 맞닿게 접촉하는 지지수단(8)을 설치하며, 지지 수단은 그 상단을 보트 본체의 바닥판 부분에 맞닿게 접촉시킨 상태로 설치되는 지지판을 갖는다.
An evaporation source for use in a vacuum evaporation apparatus is provided with: an evaporation boat inclusive of a boat main body with a containing part for an evaporation material, and electrode mounting plate parts respectively extending outward from both ends of the boat main body; and material feeding means for feeding a wire-shaped evaporation material into the containing part from an upper side thereof. By charging electric current across both electrode mounting plate parts, the boat main body is heated to evaporate the evaporation material inside the containing part. A supporting means is disposed in contact, from underneath, with such a bottom plate part of the boat main body as defines the containing part. The supporting means has supporting plates disposed in a state in which upper ends of the supporting plates are in contact, from underneath, with the bottom plate part of the boat main body.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNBzcQ3wD_YM8fT3Uwj2Dw1ydlVw8w9SCHN0Dg31VUCSdHEN83R25WFgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8d5BRgZGJgaGxgYGJoaOxsSpAgCM_Cao</recordid><startdate>20240828</startdate><enddate>20240828</enddate><creator>KURAUCHI TOSHIHARU</creator><creator>SASAKI SHUNSUKE</creator><creator>YASUDA MASASHI</creator><creator>KIMOTO TAKAHITO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240828</creationdate><title>DEPOSITION SOURCE FOR VACUUM DEPOSITION DEVICE</title><author>KURAUCHI TOSHIHARU ; SASAKI SHUNSUKE ; YASUDA MASASHI ; KIMOTO TAKAHITO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240130041A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KURAUCHI TOSHIHARU</creatorcontrib><creatorcontrib>SASAKI SHUNSUKE</creatorcontrib><creatorcontrib>YASUDA MASASHI</creatorcontrib><creatorcontrib>KIMOTO TAKAHITO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KURAUCHI TOSHIHARU</au><au>SASAKI SHUNSUKE</au><au>YASUDA MASASHI</au><au>KIMOTO TAKAHITO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>DEPOSITION SOURCE FOR VACUUM DEPOSITION DEVICE</title><date>2024-08-28</date><risdate>2024</risdate><abstract>과제. 비교적 빠른 증착률로 증착하는 경우에도 증착 보트의 변형을 가급적 억제하여 고 수명화를 도모할 수 있는 진공 처리 장치용 증착원을 제공한다. 해결수단. 증착 재료(Em)의 수용부(31a)를 갖는 보트 본체(31)와 당해 보트 본체의 양단에 각각 돌출하는 전극 장착판부(33)를 갖는 증착 보트(3)와, 보트 본체의 수용부에 대해 그 상방으로부터 와이어 형상의 증착 재료(Em)를 공급하는 재료 공급 수단(6)을 구비하는, 양쪽 전극 장착판부 사이에 통전시킴으로써 보트 본체를 가열하여 수용부 내의 증착 재료를 증발시킨다. 증발 재료의 공급에 의해 야기되는 하중이 작용하는, 당해 수용부를 획정하는 보트 본체의 바닥판 부분에 그 하방으로부터 맞닿게 접촉하는 지지수단(8)을 설치하며, 지지 수단은 그 상단을 보트 본체의 바닥판 부분에 맞닿게 접촉시킨 상태로 설치되는 지지판을 갖는다.
An evaporation source for use in a vacuum evaporation apparatus is provided with: an evaporation boat inclusive of a boat main body with a containing part for an evaporation material, and electrode mounting plate parts respectively extending outward from both ends of the boat main body; and material feeding means for feeding a wire-shaped evaporation material into the containing part from an upper side thereof. By charging electric current across both electrode mounting plate parts, the boat main body is heated to evaporate the evaporation material inside the containing part. A supporting means is disposed in contact, from underneath, with such a bottom plate part of the boat main body as defines the containing part. The supporting means has supporting plates disposed in a state in which upper ends of the supporting plates are in contact, from underneath, with the bottom plate part of the boat main body.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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