EUV 타겟 물질 회수 장치

도관의 비수평 내부 표면에 걸쳐 용융된 타겟 물질의 유동을 방해하는 유동 방해물이 제공되어 용융된 타겟 물질이 내부 표면 상에서 동결되고 내부 표면에 포획되도록 하는, EUV 시스템용 도관 구조체가 개시된다. 타겟 물질의 액적이 도관을 통과해 EUV 챔버 밖으로 향하는 경우, 도관의 측면 상의 유동 방해물은 원래 도관의 상부 표면에 의해 포획되어 측벽으로 흐르는 용융된 타겟 물질이 측벽에 부착되어 실제 액적 경로를 배제하지 않도록 한다. 이는 도관 내의 개구부가 의도된 유동이 가능하게끔 유지될 수 있도록 한다. 도관 구조체는, 예를...

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Hauptverfasser: MA YUE, DEBRUIN DANIEL STEVEN, BOMMER SEBASTIAN, DOROBANTU ANDREI, GANDHI ARPIT HEMANTKUMAR, RAJAVELU MURALIDHAR SHIVA KUMARA THEJASVI, DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA, BRIZUELA FERNANDO
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:도관의 비수평 내부 표면에 걸쳐 용융된 타겟 물질의 유동을 방해하는 유동 방해물이 제공되어 용융된 타겟 물질이 내부 표면 상에서 동결되고 내부 표면에 포획되도록 하는, EUV 시스템용 도관 구조체가 개시된다. 타겟 물질의 액적이 도관을 통과해 EUV 챔버 밖으로 향하는 경우, 도관의 측면 상의 유동 방해물은 원래 도관의 상부 표면에 의해 포획되어 측벽으로 흐르는 용융된 타겟 물질이 측벽에 부착되어 실제 액적 경로를 배제하지 않도록 한다. 이는 도관 내의 개구부가 의도된 유동이 가능하게끔 유지될 수 있도록 한다. 도관 구조체는, 예를 들어, EUV 방사선이 생성되는 챔버의 내부와 타겟 물질 수용부 사이에 배치될 수 있다. Disclosed is a conduit structure for an EUV system in which a nonhorizontal interior surface of the conduit is provided with flow obstructions that impede the flow of molten target material across the surface so that the molten target material freezes on and is captured by the interior surface. Where the conduit is one through which droplets of target material pass out of an EUV chamber, flow obstructions on the side of the conduit ensure that molten target material that is originally caught by an upper surface of the conduit and flows to the sidewall adheres to the sidewall and stays clear of the actual droplet path. This ensures that an opening in the conduit is maintained allowing the intended flow. The conduit structure may be placed, for example, between an interior of the chamber in which the EUV radiation is generated and a target material receptacle.