SUBSTRATE TREATING APPARATUS

본 발명의 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 스핀 척; 린스액을 공급하는 린스액 공급부; 상기 스핀 척의 외측 방향으로 하향 경사지는 경사면을 포함하는 제1 바울; 및 상기 제1 바울의 경사면에 상기 스핀 척을 둘러싸는 나선을 이루도록 마련되어, 상기 린스액의 흐름이 상기 나선을 따라 가이드되도록 하는 가이드부를 포함한다. A substrate treating apparatus includes: a spin chuck supporting a substrate; a rinse liquid supply unit supplying a...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM NAM KYU, LIM JAE HYUN, AN YOUNG SEO, JO YOUNG JU, PARK JAE HOON, PARK SEO JUNG, LEE DAE MYEONG, SEO KYUNG JIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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