SUBSTRATE TREATING APPARATUS

SUBSTRATE TREATING APPARATUS

본 발명의 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 스핀 척; 상기 스핀 척을 두르며, 둘레면의 접선과 직각을 이루지 않도록 입구와 출구가 방사 방향에서 어긋나게 관통되는 린스액 공급홀이 형성되는 제1 바울; 및 상기 린스액 공급홀로 린스액을 공급하는 린스액 공급부를 포함한다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KIM NAM KYU, LIM JAE HYUN, AN YOUNG SEO, JO YOUNG JU, PARK JAE HOON, PARK SEO JUNG, LEE DAE MYEONG, SEO KYUNG JIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 스핀 척; 상기 스핀 척을 두르며, 둘레면의 접선과 직각을 이루지 않도록 입구와 출구가 방사 방향에서 어긋나게 관통되는 린스액 공급홀이 형성되는 제1 바울; 및 상기 린스액 공급홀로 린스액을 공급하는 린스액 공급부를 포함한다.