SUBSTRATE TREATING APPARATUS

본 발명의 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 스핀 척; 상기 기판으로 처리액을 토출하는 제1 노즐을 구비하는 노즐 유닛; 및 상기 스핀 척을 두르며, 상기 처리액의 접촉각을 변화시키는 물질이 코팅되거나 상기 물질이 포함되는 필름이 구비되는 바울 부재를 포함한다....

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM NAM KYU, LIM JAE HYUN, AN YOUNG SEO, JO YOUNG JU, PARK JAE HOON, PARK SEO JUNG, LEE DAE MYEONG, SEO KYUNG JIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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