APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE
본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치는 기판을 처리하는 처리공간을 갖는 보울부; 상기 처리공간에 배치되며 상기 기판을 지지하는 지지부; 상기 기판에 액을 공급하는 공급부; 상기 보울부 및 공급부에 연결되며 상기 기판으로 공급된 액을 회수하여 재생하는 리사이클라인을 포함하는 리사이클부; 상기 기판으로 공급된 액을 외부로 배출하는 드레인라인; 상기 리사이클라인 및 상기 드레인라인에 배치되며 상기 리사이클라인 및 상기 드레인라인의 액의 유동을 개폐하는 밸브부; 상기 기판에 대한 브로...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!