APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE

본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치는 기판을 처리하는 처리공간을 갖는 보울부; 상기 처리공간에 배치되며 상기 기판을 지지하는 지지부; 상기 기판에 액을 공급하는 공급부; 상기 보울부 및 공급부에 연결되며 상기 기판으로 공급된 액을 회수하여 재생하는 리사이클라인을 포함하는 리사이클부; 상기 기판으로 공급된 액을 외부로 배출하는 드레인라인; 상기 리사이클라인 및 상기 드레인라인에 배치되며 상기 리사이클라인 및 상기 드레인라인의 액의 유동을 개폐하는 밸브부; 상기 기판에 대한 브로...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM MIN JUNG, HONG YONG HOON, HAN JIN AH, PARK SOO YOUNG, PARK SUNG BUM
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CLEANING CLEANING IN GENERAL COLORIMETRY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT MEASURING PERFORMING OPERATIONS PHYSICS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL RADIATION PYROMETRY SEMICONDUCTOR DEVICES TESTING TRANSPORTING
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