에지 링으로의 입력 전압 파형을 변경함에 의한 극단 에지 피처 프로파일 틸팅 제어
웨이퍼를 에칭하기 위한 시스템이 제공된다. 일 예에서, 시스템은 하부 전극 및 하부 전극 위에 배치된 상부 전극을 포함한다. 시스템은 하부 전극을 둘러싸는 (surround) 에지 링을 더 포함한다. 시스템은 하부 전극에 전기적으로 커플링된 제 1 무선 주파수 (radio frequency; RF) 생성기 및 에지 링에 전기적으로 커플링된 제 2 RF 생성기를 포함한다. 시스템은 또한 에지 링에 부가적인 DC 바이어스를 전기적으로 공급하기 위한 직류 (direct current; DC) 바이어스 생성기를 포함한다. 시스템은 제 1...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 웨이퍼를 에칭하기 위한 시스템이 제공된다. 일 예에서, 시스템은 하부 전극 및 하부 전극 위에 배치된 상부 전극을 포함한다. 시스템은 하부 전극을 둘러싸는 (surround) 에지 링을 더 포함한다. 시스템은 하부 전극에 전기적으로 커플링된 제 1 무선 주파수 (radio frequency; RF) 생성기 및 에지 링에 전기적으로 커플링된 제 2 RF 생성기를 포함한다. 시스템은 또한 에지 링에 부가적인 DC 바이어스를 전기적으로 공급하기 위한 직류 (direct current; DC) 바이어스 생성기를 포함한다. 시스템은 제 1 RF 생성기 및 제 2 RF 생성기 및 DC 바이어스 생성기와 인터페이싱된 제어기를 포함한다. 제 1 RF 생성기는 하부 전극에서 웨이퍼 전압 (VW) 파형을 생성하도록 구성된다. 생성된 VW 파형은 유도된 직류 (DC) 컴포넌트 및 제 1 RF 생성기에 의해 생성된 제 1 RF 컴포넌트를 포함한다. 제어기는 에지 링으로의 인가를 위해 에지 링 전압 (VER) 파형을 생성하도록 구성된다. VER 파형은 부가적인 DC 바이어스 및 제 2 RF 생성기에 의해 생성된 제 2 RF 컴포넌트를 포함한다. VER 파형은 VW 파형과 실질적으로 동일한 주파수 및 위상, VW 파형으로부터의 DC 오프셋, 및 VW 파형의 진폭에 상대적인 진폭 변동을 갖도록 제어기에 의해 프로그래밍된다.
A system for etching a wafer is provided. In one example, the system includes a lower electrode and an upper electrode disposed above the lower electrode. The system further includes an edge ring surrounding the lower electrode. The system includes a first radio frequency (RF) generator electrically coupled to the lower electrode and a second radio frequency (RF) generator electrically coupled to the edge ring. The system also includes a direct current (DC) bias generator for electrically supplying an additive DC bias to the edge ring. The system includes a controller interfaced with the first and second RF generators and the DC bias generator. The first RF generator is configured to produce a wafer voltage (V w) waveform at the lower electrode. The produced Vw waveform includes an induced direct current (DC) component and a first RF component produced by the first RF generator. The controller is configured to produce an edge ring voltage (VER) waveform for application to the edge ring. The VER waveform includes the additive DC bias and a second RF component produced by the second RF generator. The VER waveform is programmed by the controller to have a substantially same frequency and phase as the Vw waveform, a DC offset from the Vw waveform, and an amplitude variation relative to an amplitude of the Vw waveform. |
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