멀티-스테이션 반도체 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 장치들

멀티-스테이션 프로세싱 챔버의 중심 위치로부터 챔버 내의 상이한 프로세싱 스테이션들로 플라즈마 전달이 재지향되도록 하는 다양한 시스템들이 개시된다. 이러한 시스템들은 편향기 플레이트가 웨이퍼 인덱서 상에 센터링되도록 웨이퍼 인덱서에 장착되는 편향기 플레이트를 포함할 수도 있다. 다른 구현 예들에서, 이러한 시스템들은 프로세싱 챔버의 천장과 고정된 관계로 장착되는 편향기 플레이트를 포함할 수도 있다. Disclosed are various systems that allow for plasma delivery from a central...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	GONG BO, PREMAKUMAR HARISH KUMAR, CHANG CHING YUN, JUAREZ FRANCISCO J, GUO TONGTONG, BATZER RACHEL E
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	멀티-스테이션 프로세싱 챔버의 중심 위치로부터 챔버 내의 상이한 프로세싱 스테이션들로 플라즈마 전달이 재지향되도록 하는 다양한 시스템들이 개시된다. 이러한 시스템들은 편향기 플레이트가 웨이퍼 인덱서 상에 센터링되도록 웨이퍼 인덱서에 장착되는 편향기 플레이트를 포함할 수도 있다. 다른 구현 예들에서, 이러한 시스템들은 프로세싱 챔버의 천장과 고정된 관계로 장착되는 편향기 플레이트를 포함할 수도 있다. Disclosed are various systems that allow for plasma delivery from a central location in a multi-station processing chamber to be redirected to different processing stations within the chamber. Such systems may include a deflector plate that is mounted to a wafer indexer such that the deflector plate is centered on the wafer indexer. In other implementations, such systems may include a deflector plate that is mounted in a fixed relationship with a ceiling of the processing chamber.