THERMAL PROCESSING APPARATUS USING MICROWAVE AND OPERATION METHOD THEREOF
본 발명은 처리 공간으로 조사되는 마이크로파의 모드를 설비의 설계 변경 없이 변환시킬 수 있는 열처리 장치 및 그 동작 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로파를 사용한 열처리 장치는, 기판의 열처리 공간을 형성하고 내벽에 전기 영동 필름이 부착된 챔버; 상기 열처리 공간의 하부에 위치하고 상기 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 열처리 공간의 상부에 위치하고 상기 마이크로파에 의한 전자기장을 상기 열처리 공간에 형성하는 마이크로파 유닛; 및 공정 조건 및 상기 기판의 크기에 기반하여 상기 마이크로파의 이동 경로...
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Format: | Patent |
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creator | KANG HAN LIM WI SUNG SUK CHOI YOON SEOK |
description | 본 발명은 처리 공간으로 조사되는 마이크로파의 모드를 설비의 설계 변경 없이 변환시킬 수 있는 열처리 장치 및 그 동작 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로파를 사용한 열처리 장치는, 기판의 열처리 공간을 형성하고 내벽에 전기 영동 필름이 부착된 챔버; 상기 열처리 공간의 하부에 위치하고 상기 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 열처리 공간의 상부에 위치하고 상기 마이크로파에 의한 전자기장을 상기 열처리 공간에 형성하는 마이크로파 유닛; 및 공정 조건 및 상기 기판의 크기에 기반하여 상기 마이크로파의 이동 경로를 제어하도록 상기 전기 영동 필름을 제어하는 제어기를 포함한다.
A thermal processing apparatus using microwaves and a method of operating the same are proposed. Provided is the thermal processing apparatus and an operation method thereof capable of converting a mode of the microwaves emitted into a processing space without changing equipment design. The thermal processing apparatus using microwaves includes a chamber configured to form the thermal processing space for a substrate and have an inner wall to which an electrophoresis film attached, a substrate support unit positioned on a lower part of the thermal processing space and supporting the substrate, a microwave unit positioned on an upper part of the thermal processing space and forming an electromagnetic field generated by the microwaves in the thermal processing space, and a controller for controlling the electrophoretic film so as to control movement paths of the microwaves on the basis of a process condition and a size of the substrate. |
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A thermal processing apparatus using microwaves and a method of operating the same are proposed. Provided is the thermal processing apparatus and an operation method thereof capable of converting a mode of the microwaves emitted into a processing space without changing equipment design. The thermal processing apparatus using microwaves includes a chamber configured to form the thermal processing space for a substrate and have an inner wall to which an electrophoresis film attached, a substrate support unit positioned on a lower part of the thermal processing space and supporting the substrate, a microwave unit positioned on an upper part of the thermal processing space and forming an electromagnetic field generated by the microwaves in the thermal processing space, and a controller for controlling the electrophoretic film so as to control movement paths of the microwaves on the basis of a process condition and a size of the substrate.</description><language>eng ; kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING ; ELECTRIC HEATING ; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; FREQUENCY-CHANGING ; NON-LINEAR OPTICS ; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS ; OPTICAL LOGIC ELEMENTS ; OPTICS ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240624&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240092334A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240624&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240092334A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KANG HAN LIM</creatorcontrib><creatorcontrib>WI SUNG SUK</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI YOON SEOK</creatorcontrib><title>THERMAL PROCESSING APPARATUS USING MICROWAVE AND OPERATION METHOD THEREOF</title><description>본 발명은 처리 공간으로 조사되는 마이크로파의 모드를 설비의 설계 변경 없이 변환시킬 수 있는 열처리 장치 및 그 동작 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로파를 사용한 열처리 장치는, 기판의 열처리 공간을 형성하고 내벽에 전기 영동 필름이 부착된 챔버; 상기 열처리 공간의 하부에 위치하고 상기 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 열처리 공간의 상부에 위치하고 상기 마이크로파에 의한 전자기장을 상기 열처리 공간에 형성하는 마이크로파 유닛; 및 공정 조건 및 상기 기판의 크기에 기반하여 상기 마이크로파의 이동 경로를 제어하도록 상기 전기 영동 필름을 제어하는 제어기를 포함한다.
A thermal processing apparatus using microwaves and a method of operating the same are proposed. Provided is the thermal processing apparatus and an operation method thereof capable of converting a mode of the microwaves emitted into a processing space without changing equipment design. The thermal processing apparatus using microwaves includes a chamber configured to form the thermal processing space for a substrate and have an inner wall to which an electrophoresis film attached, a substrate support unit positioned on a lower part of the thermal processing space and supporting the substrate, a microwave unit positioned on an upper part of the thermal processing space and forming an electromagnetic field generated by the microwaves in the thermal processing space, and a controller for controlling the electrophoretic film so as to control movement paths of the microwaves on the basis of a process condition and a size of the substrate.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING</subject><subject>ELECTRIC HEATING</subject><subject>ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>FREQUENCY-CHANGING</subject><subject>NON-LINEAR OPTICS</subject><subject>OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS</subject><subject>OPTICAL LOGIC ELEMENTS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPAM8XAN8nX0UQgI8nd2DQ729HNXcAwIcAxyDAkNVggF8309nYP8wx3DXBUc_VwU_ANcgZKe_n4Kvq4hHv4uCiATXP3deBhY0xJzilN5oTQ3g7Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJvHeQkYGRiYGBpZGxsYmjMXGqABM6LkY</recordid><startdate>20240624</startdate><enddate>20240624</enddate><creator>KANG HAN LIM</creator><creator>WI SUNG SUK</creator><creator>CHOI YOON SEOK</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240624</creationdate><title>THERMAL PROCESSING APPARATUS USING MICROWAVE AND OPERATION METHOD THEREOF</title><author>KANG HAN LIM ; WI SUNG SUK ; CHOI YOON SEOK</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240092334A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING</topic><topic>ELECTRIC HEATING</topic><topic>ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>FREQUENCY-CHANGING</topic><topic>NON-LINEAR OPTICS</topic><topic>OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS</topic><topic>OPTICAL LOGIC ELEMENTS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KANG HAN LIM</creatorcontrib><creatorcontrib>WI SUNG SUK</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI YOON SEOK</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KANG HAN LIM</au><au>WI SUNG SUK</au><au>CHOI YOON SEOK</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>THERMAL PROCESSING APPARATUS USING MICROWAVE AND OPERATION METHOD THEREOF</title><date>2024-06-24</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명은 처리 공간으로 조사되는 마이크로파의 모드를 설비의 설계 변경 없이 변환시킬 수 있는 열처리 장치 및 그 동작 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로파를 사용한 열처리 장치는, 기판의 열처리 공간을 형성하고 내벽에 전기 영동 필름이 부착된 챔버; 상기 열처리 공간의 하부에 위치하고 상기 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 열처리 공간의 상부에 위치하고 상기 마이크로파에 의한 전자기장을 상기 열처리 공간에 형성하는 마이크로파 유닛; 및 공정 조건 및 상기 기판의 크기에 기반하여 상기 마이크로파의 이동 경로를 제어하도록 상기 전기 영동 필름을 제어하는 제어기를 포함한다.
A thermal processing apparatus using microwaves and a method of operating the same are proposed. Provided is the thermal processing apparatus and an operation method thereof capable of converting a mode of the microwaves emitted into a processing space without changing equipment design. The thermal processing apparatus using microwaves includes a chamber configured to form the thermal processing space for a substrate and have an inner wall to which an electrophoresis film attached, a substrate support unit positioned on a lower part of the thermal processing space and supporting the substrate, a microwave unit positioned on an upper part of the thermal processing space and forming an electromagnetic field generated by the microwaves in the thermal processing space, and a controller for controlling the electrophoretic film so as to control movement paths of the microwaves on the basis of a process condition and a size of the substrate.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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