3 EUV Pellicle frame having an elastic body having a three-dimensional through-hole structure Pellicle including the same and EUV photolithography apparatus including the same

실시예는 3차원 관통공 구조의 탄성체를 포함하는 펠리클 프레임, 이를 포함하는 펠리클 및 EUV 노광 장치에 관한 것이다. 실시예에 따른 펠리클 프레임은, 소정의 마스크 패턴이 형성된 레티클 상에 배치되는 펠리클 프레임에 있어서, 펠리클 프레임 바디와 상기 레티클 사이에 배치되는 3차원으로 연통된 관통공 구조의 탄성체 구조를 포함할 수 있다. 상기 3차원으로 연통된 관통공 구조의 탄성체 구조는, 탄성체 바디와, 상기 탄성체 바디 내에 제1 방향으로 배치된 제1 관통공과, 상기 탄성체 바디 내에 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	YU LAN, PARK JINSU, CHO SANGJIN, PARK SEONGHWAN, KIM CHEONG, KIM YONGSU, SEO KYOUNGWON, KANG HONGGU, KIM KYOUNGSOO, CHOI JAEHYUCK, LEE SOYOON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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