Apparatus for processing substrate

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 시분할 방식으로 공급된 공정 가스를 이용하여 기판에 대한 공정을 수행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판의 공정을 위한 공정 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버에 구비되고, 상기 기판으로 공정 가스를 분사하는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부, 및 공정 가스를 가압하여 상기 가스 공급부로 제공하는 가스 가압부를 포함하되, 상기 가스 가압부는 공정 가스를 가압하는 가스 가압 탱크를 포함하고, 상기...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	CHO HYUN CHUL, RYU HUI SEONG, SEO DONG WON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BLASTING CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS HEATING INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LIGHTING MECHANICAL ENGINEERING METALLURGY PIPE-LINE SYSTEMS PIPE-LINES STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 시분할 방식으로 공급된 공정 가스를 이용하여 기판에 대한 공정을 수행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판의 공정을 위한 공정 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버에 구비되고, 상기 기판으로 공정 가스를 분사하는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부, 및 공정 가스를 가압하여 상기 가스 공급부로 제공하는 가스 가압부를 포함하되, 상기 가스 가압부는 공정 가스를 가압하는 가스 가압 탱크를 포함하고, 상기 가스 가압 탱크에 구비된 가스 입력 라인 및 가스 출력 라인은 상기 가스 가압 탱크의 반대측에 각각 배치되어 상기 가스 가압 탱크의 내부에서 일직선의 유로가 형성되도록 한다.