APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE

본 발명은 기판처리장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치는 기판을 지지하며 회전시키는 지지부; 및 상기 지지부 및 상기 기판의 외측을 둘러싸며, 상부 중앙이 개방된 개구 및 가이드부를 포함하는 보울부;를 포함하고, 상기 가이드부는 상기 개구의 둘레에서 수직방향을 따라 상향 돌출되는 제1 가이드벽; 및 상기 제1 가이드벽의 하부에서 하향 돌출되는 제2 가이드벽;을 포함한다. 이러한 구성에 따르면, 보울부의 제1 가이드벽의 수직구간을 통해 보울부 내부로 유입되는 기체의 하강기류를 강화시킬 수 있으며 또한 제1 가이드...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PARK EUN WOO, BAEK HYE BIN, LIM JAE HYUN, KIM DAE SUNG, EUM KI SANG, LEE JAE HO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 기판처리장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치는 기판을 지지하며 회전시키는 지지부; 및 상기 지지부 및 상기 기판의 외측을 둘러싸며, 상부 중앙이 개방된 개구 및 가이드부를 포함하는 보울부;를 포함하고, 상기 가이드부는 상기 개구의 둘레에서 수직방향을 따라 상향 돌출되는 제1 가이드벽; 및 상기 제1 가이드벽의 하부에서 하향 돌출되는 제2 가이드벽;을 포함한다. 이러한 구성에 따르면, 보울부의 제1 가이드벽의 수직구간을 통해 보울부 내부로 유입되는 기체의 하강기류를 강화시킬 수 있으며 또한 제1 가이드벽의 수직구간을 따라 유입되는 기체가 제2 가이드벽을 따라 균일하게 보울부 내로 유동할 수 있어 보울부 내부로의 기체 유동 균일성을 향상시킬 수 있다.