플로우 제한기들의 업스트림의 가열기들을 사용하는 복수의 스테이션들로의 가스 플로우 밸런싱

기판 프로세싱 툴의 복수의 스테이션들에 가스를 공급하기 위한 시스템은 가스를 공급하기 위한 가스 소스, 가스 소스에 연결된 질량 유량 제어기, 복수의 도관들, 및 복수의 가열기들을 포함한다. 도관들은 서로에 상호연결되고 서로와 유체로 연통한다 (in fluid communication). 도관들은 질량 유량 제어기에 연결된 유입구, 복수의 유출구들을 포함하는 복수의 부분들, 및 복수의 가스 플로우 제한기들을 포함한다. 유출구들은 가스를 스테이션들에 공급하기 위한 각각의 매니폴드들에 연결된다. 가스 플로우 제한기들은 유출구들에 근접한...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	RATLIFF BRIAN, TOPPING STEPHEN, ODE ROHIT, WILLIAMS BRIAN JOSEPH, BRUENING RIGEL MARTIN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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