Pellicle Frame with Filter and Method of Fabricating the Same

본 발명은 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 필터를 구비한 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은, 펠리클 막을 지지하기 위한 중공의 통 형상의 프레임과; 상기 프레임의 내측 면과 외측 면 중 적어도 하나의 측면에 부착되는 결합부와, 상기 결합부로부터 포토마스크를 향해 연장되는 연장부를 구비하며, 상기 연장부에는 가스가 통과할 수 있는 복수의 기공이 형성되며, 상기 연장부는 상기 프레임을 향해서 굽어 있는 띠 형태의 필름 필터를 포함하는 필터를 구비한 펠리클 프레임을 제공한다. 본...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PARK JIN SU, SEO KYOUNG WON, PARK JUN WOO, PARK SEONG HWAN, YUN WOO HYUN, KIM KYOUNG SOO, YU LAN, YANG SEONG JU, LEE DONG HOON, KANG HONG GU, KIM CHEONG, LEE SO YOON, CHOI JAE HYUCK, KIM YONG SU, CHO SANG JIN, YOO JUN SEONG, LEE HWA CHOL, BAE JUNG JUN, HONG SEONG GYU
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 필터를 구비한 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은, 펠리클 막을 지지하기 위한 중공의 통 형상의 프레임과; 상기 프레임의 내측 면과 외측 면 중 적어도 하나의 측면에 부착되는 결합부와, 상기 결합부로부터 포토마스크를 향해 연장되는 연장부를 구비하며, 상기 연장부에는 가스가 통과할 수 있는 복수의 기공이 형성되며, 상기 연장부는 상기 프레임을 향해서 굽어 있는 띠 형태의 필름 필터를 포함하는 필터를 구비한 펠리클 프레임을 제공한다. 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 통기성을 확보하면서도, 이물질을 차단할 수 있다는 장점이 있다.