센서 시스템
기판의 형상을 측정하기 위한 센서 시스템으로서, 기판의 표면을 지지하기 위한 기판 지지대, 적어도 하나의 센서 디바이스 - 각각의 센서 디바이스는 방사선 빔을 상기 기판의 표면 상에 방출하기 위한 광 방출기 및 상기 표면으로부터 반사된 방사선 빔을 수광하기 위한 광 수광기를 포함함 -, 및 콘트롤러를 포함하는, 센서 시스템. 상기 콘트롤러는, 수광된 방사선 빔에 기반하여, 상기 적어도 하나의 센서 디바이스 각각 위에서 상기 기판의 표면의 적어도 하나의 측정 높이를 결정하도록, 교정 높이에 상대적인 상기 기판의 중력 처짐을 보상하도록...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 기판의 형상을 측정하기 위한 센서 시스템으로서, 기판의 표면을 지지하기 위한 기판 지지대, 적어도 하나의 센서 디바이스 - 각각의 센서 디바이스는 방사선 빔을 상기 기판의 표면 상에 방출하기 위한 광 방출기 및 상기 표면으로부터 반사된 방사선 빔을 수광하기 위한 광 수광기를 포함함 -, 및 콘트롤러를 포함하는, 센서 시스템. 상기 콘트롤러는, 수광된 방사선 빔에 기반하여, 상기 적어도 하나의 센서 디바이스 각각 위에서 상기 기판의 표면의 적어도 하나의 측정 높이를 결정하도록, 교정 높이에 상대적인 상기 기판의 중력 처짐을 보상하도록, 그리고 상기 교정 높이와 상기 적어도 하나의 측정 높이의 비교에 기반하여 상기 기판의 형상을 결정하도록 구성된다.
A sensor system for measuring a shape of a substrate, the sensor system include: a substrate support to support a surface of the substrate; at least one sensor device, each sensor device including an optical emitter to emit radiation onto the surface of the substrate, and an optical receiver to receive the radiation reflected from the surface; and a controller. The controller is configured to: determine at least one measurement height of the surface of the substrate above each of the at least one sensor device, based on the received radiation; compensate for gravitational sag of the substrate relative to a calibration height; and determine the shape of the substrate based on a comparison of the calibration height and the at least one measurement height. |
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