APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE

APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE

본 발명은 기판 처리 방법 및 장치를 제공한다. 상기 방법은, 공정 챔버에 기판을 투입하는 단계; 기판 위치를 정렬하는 단계; 상기 공정 챔버의 내부에 NJI 제팅(Nozzle Jetting Inspection jetting) 작업을 실행하는 단계; 약액 예비 토출 공정(prejet 공정)의 동작 조건을 확인하고, 상기 동작 조건이 만족되는지 모니터링하는 단계; 상기 동작 조건이 만족될 경우에만 상기 약액 예비 토출 공정을 진행하는 단계; 상기 기판의 표면에 약액을 토출하여 메인 프린팅 공정을 진행하는 단계; 및 상기 메인 프린팅...

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1. Verfasser: KO WOO YOUNG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME
LINING MACHINES
PERFORMING OPERATIONS
PRINTING
SELECTIVE PRINTING MECHANISMS
STAMPS
TRANSPORTING
TYPEWRITERS
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creator KO WOO YOUNG
description 본 발명은 기판 처리 방법 및 장치를 제공한다. 상기 방법은, 공정 챔버에 기판을 투입하는 단계; 기판 위치를 정렬하는 단계; 상기 공정 챔버의 내부에 NJI 제팅(Nozzle Jetting Inspection jetting) 작업을 실행하는 단계; 약액 예비 토출 공정(prejet 공정)의 동작 조건을 확인하고, 상기 동작 조건이 만족되는지 모니터링하는 단계; 상기 동작 조건이 만족될 경우에만 상기 약액 예비 토출 공정을 진행하는 단계; 상기 기판의 표면에 약액을 토출하여 메인 프린팅 공정을 진행하는 단계; 및 상기 메인 프린팅 공정이 종료된 상기 기판을 상기 공정 챔버의 밖으로 배출하는 단계; 를 포함할 수 있다. 상기 장치는, 기판 상에 약액을 토출하기 위한 것으로써, 공정 챔버, 슬릿 노즐, 공급 펌프, 센서부, 저장부, 제어부, 운영부를 포함할 수 있다.
format Patent
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