MULTISTAGE NOZZLE APPARATUS OF BUFFER CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESS DEVICE COMPRISING THE SAME

MULTISTAGE NOZZLE APPARATUS OF BUFFER CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESS DEVICE COMPRISING THE SAME

본 발명은 EFEM의 반송실에 설치되어 이송되는 웨이퍼를 버퍼링하는 버퍼 챔버의 다단 노즐 장치에 관한 것으로서, 전면에 웨이퍼가 출입하는 출입구가 형성되고 내부에 복수의 웨이퍼가 적재되는 적재공간이 상하방향의 복수층으로 형성된 챔버부와, 이 챔버부의 외부에서 적재공간의 복수층으로 퍼지가스를 분사하도록 연통 형성된 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 챔버부의 둘레에 노즐부를 설치하여 적재공간의 상하층에 퍼지가스를 고르게 분사함으로써, 챔버부의 습도를 일정하게 저하시켜 유지하여 반도체의 생산 수율을 향상시킬 수...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: HEO JIN WOO, JEONG JONG EUL, KIM TAE MOON
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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creator HEO JIN WOO
JEONG JONG EUL
KIM TAE MOON
description 본 발명은 EFEM의 반송실에 설치되어 이송되는 웨이퍼를 버퍼링하는 버퍼 챔버의 다단 노즐 장치에 관한 것으로서, 전면에 웨이퍼가 출입하는 출입구가 형성되고 내부에 복수의 웨이퍼가 적재되는 적재공간이 상하방향의 복수층으로 형성된 챔버부와, 이 챔버부의 외부에서 적재공간의 복수층으로 퍼지가스를 분사하도록 연통 형성된 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 챔버부의 둘레에 노즐부를 설치하여 적재공간의 상하층에 퍼지가스를 고르게 분사함으로써, 챔버부의 습도를 일정하게 저하시켜 유지하여 반도체의 생산 수율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
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