증가한 집속 파워를 갖는 멀티-빔 생성 유닛

멀티-빔 시스템용 멀티-빔 생성 유닛이 다수의 1차 대전 입자 빔렛 각각에 대해 더 큰 개별 집속 파워가 제공된다. 멀티-빔 생성 유닛은 능동 종단 멀티-애퍼쳐 판을 포함한다. 종단 멀티-애퍼쳐 판은 다수의 1차 대전 입자 빔렛의 각 빔렛의 개별 스티그매틱 초점 스폿 조정을 위한 더 큰 집속 범위에 사용될 수 있다. A multi-beam generation unit for a multi-beam system has larger individual focusing power for each of a plurality of prima...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BIHR ULRICH, ZEIDLER DIRK, KURIJ GEORG, SINGER WOLFGANG, SAROV YANKO, KASTNER MARCUS, SCHMID THOMAS
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:멀티-빔 시스템용 멀티-빔 생성 유닛이 다수의 1차 대전 입자 빔렛 각각에 대해 더 큰 개별 집속 파워가 제공된다. 멀티-빔 생성 유닛은 능동 종단 멀티-애퍼쳐 판을 포함한다. 종단 멀티-애퍼쳐 판은 다수의 1차 대전 입자 빔렛의 각 빔렛의 개별 스티그매틱 초점 스폿 조정을 위한 더 큰 집속 범위에 사용될 수 있다. A multi-beam generation unit for a multi-beam system has larger individual focusing power for each of a plurality of primary charged particle beamlets. The multi-beam generation unit comprises an active terminating multi-aperture plate. The terminating multi-aperture plate can be used for a larger focusing range for an individual stigmatic focus spot adjustment of each beamlet of a plurality of primary charged particle beamlets.