SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
본 발명의 기술적 사상은, 기판을 지지하도록 구성된 지지 플레이트; 처리액을 저장하는 저장 탱크를 적어도 하나 이상 포함하는 처리액 저장부; 및 상기 처리액을 상기 지지 플레이트 상에 지지된 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 처리액 공급부;를 포함하고, 상기 처리액 공급부는, 처리액을 보관하는 트랩 탱크; 상기 처리액 저장부에 저장된 처리액을 상기 트랩 탱크에 공급하며, 상기 트랩 탱크의 하면 및 상기 처리액 저장부에 연결되고, 상기 트랩 탱크의 하면으로 상기 처리액 저장부에 저장된 상기 처리액을 토출하는 개구를 포함하는 제1 전...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | SON YOUNG JUN JUNG WOO SIN GOH JUNG SUK |
| description | 본 발명의 기술적 사상은, 기판을 지지하도록 구성된 지지 플레이트; 처리액을 저장하는 저장 탱크를 적어도 하나 이상 포함하는 처리액 저장부; 및 상기 처리액을 상기 지지 플레이트 상에 지지된 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 처리액 공급부;를 포함하고, 상기 처리액 공급부는, 처리액을 보관하는 트랩 탱크; 상기 처리액 저장부에 저장된 처리액을 상기 트랩 탱크에 공급하며, 상기 트랩 탱크의 하면 및 상기 처리액 저장부에 연결되고, 상기 트랩 탱크의 하면으로 상기 처리액 저장부에 저장된 상기 처리액을 토출하는 개구를 포함하는 제1 전단 공급 라인; 상기 트랩 탱크 내에서 수직한 방향으로 연장되고, 유체가 유입되는 개구를 포함하며, 상기 개구는 상기 트랩 탱크의 하면 상에서 수직한 방향으로 이격되도록 구성된 유입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 버블을 빨아들이는 제1 흡입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 빨아들이며, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 배출하는 개구를 포함하는 제2 흡입 라인; 및 상기 트랩 탱크에 보관된 상기 처리액을 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 후단 공급 라인을 포함하며, 상기 유입 라인은 상기 유입 라인의 개구가 상기 제1 전단 공급 라인의 개구에 대향하도록 위치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20240003653A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20240003653A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20240003653A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZJALDnUKDglyDHFVCAjyd3YNDvb0c1dwDAhwBIqFBvMwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUknjvICMDIxMDAwNjM1NjR2PiVAEAWvAifg</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS</title><source>esp@cenet</source><creator>SON YOUNG JUN ; JUNG WOO SIN ; GOH JUNG SUK</creator><creatorcontrib>SON YOUNG JUN ; JUNG WOO SIN ; GOH JUNG SUK</creatorcontrib><description>본 발명의 기술적 사상은, 기판을 지지하도록 구성된 지지 플레이트; 처리액을 저장하는 저장 탱크를 적어도 하나 이상 포함하는 처리액 저장부; 및 상기 처리액을 상기 지지 플레이트 상에 지지된 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 처리액 공급부;를 포함하고, 상기 처리액 공급부는, 처리액을 보관하는 트랩 탱크; 상기 처리액 저장부에 저장된 처리액을 상기 트랩 탱크에 공급하며, 상기 트랩 탱크의 하면 및 상기 처리액 저장부에 연결되고, 상기 트랩 탱크의 하면으로 상기 처리액 저장부에 저장된 상기 처리액을 토출하는 개구를 포함하는 제1 전단 공급 라인; 상기 트랩 탱크 내에서 수직한 방향으로 연장되고, 유체가 유입되는 개구를 포함하며, 상기 개구는 상기 트랩 탱크의 하면 상에서 수직한 방향으로 이격되도록 구성된 유입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 버블을 빨아들이는 제1 흡입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 빨아들이며, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 배출하는 개구를 포함하는 제2 흡입 라인; 및 상기 트랩 탱크에 보관된 상기 처리액을 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 후단 공급 라인을 포함하며, 상기 유입 라인은 상기 유입 라인의 개구가 상기 제1 전단 공급 라인의 개구에 대향하도록 위치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.</description><language>eng ; kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240109&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240003653A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240109&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240003653A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SON YOUNG JUN</creatorcontrib><creatorcontrib>JUNG WOO SIN</creatorcontrib><creatorcontrib>GOH JUNG SUK</creatorcontrib><title>SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS</title><description>본 발명의 기술적 사상은, 기판을 지지하도록 구성된 지지 플레이트; 처리액을 저장하는 저장 탱크를 적어도 하나 이상 포함하는 처리액 저장부; 및 상기 처리액을 상기 지지 플레이트 상에 지지된 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 처리액 공급부;를 포함하고, 상기 처리액 공급부는, 처리액을 보관하는 트랩 탱크; 상기 처리액 저장부에 저장된 처리액을 상기 트랩 탱크에 공급하며, 상기 트랩 탱크의 하면 및 상기 처리액 저장부에 연결되고, 상기 트랩 탱크의 하면으로 상기 처리액 저장부에 저장된 상기 처리액을 토출하는 개구를 포함하는 제1 전단 공급 라인; 상기 트랩 탱크 내에서 수직한 방향으로 연장되고, 유체가 유입되는 개구를 포함하며, 상기 개구는 상기 트랩 탱크의 하면 상에서 수직한 방향으로 이격되도록 구성된 유입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 버블을 빨아들이는 제1 흡입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 빨아들이며, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 배출하는 개구를 포함하는 제2 흡입 라인; 및 상기 트랩 탱크에 보관된 상기 처리액을 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 후단 공급 라인을 포함하며, 상기 유입 라인은 상기 유입 라인의 개구가 상기 제1 전단 공급 라인의 개구에 대향하도록 위치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJALDnUKDglyDHFVCAjyd3YNDvb0c1dwDAhwBIqFBvMwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUknjvICMDIxMDAwNjM1NjR2PiVAEAWvAifg</recordid><startdate>20240109</startdate><enddate>20240109</enddate><creator>SON YOUNG JUN</creator><creator>JUNG WOO SIN</creator><creator>GOH JUNG SUK</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240109</creationdate><title>SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS</title><author>SON YOUNG JUN ; JUNG WOO SIN ; GOH JUNG SUK</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240003653A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SON YOUNG JUN</creatorcontrib><creatorcontrib>JUNG WOO SIN</creatorcontrib><creatorcontrib>GOH JUNG SUK</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SON YOUNG JUN</au><au>JUNG WOO SIN</au><au>GOH JUNG SUK</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS</title><date>2024-01-09</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명의 기술적 사상은, 기판을 지지하도록 구성된 지지 플레이트; 처리액을 저장하는 저장 탱크를 적어도 하나 이상 포함하는 처리액 저장부; 및 상기 처리액을 상기 지지 플레이트 상에 지지된 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 처리액 공급부;를 포함하고, 상기 처리액 공급부는, 처리액을 보관하는 트랩 탱크; 상기 처리액 저장부에 저장된 처리액을 상기 트랩 탱크에 공급하며, 상기 트랩 탱크의 하면 및 상기 처리액 저장부에 연결되고, 상기 트랩 탱크의 하면으로 상기 처리액 저장부에 저장된 상기 처리액을 토출하는 개구를 포함하는 제1 전단 공급 라인; 상기 트랩 탱크 내에서 수직한 방향으로 연장되고, 유체가 유입되는 개구를 포함하며, 상기 개구는 상기 트랩 탱크의 하면 상에서 수직한 방향으로 이격되도록 구성된 유입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 버블을 빨아들이는 제1 흡입 라인; 상기 유입 라인에서 분기되고, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 빨아들이며, 상기 유입 라인을 통과하는 처리액을 배출하는 개구를 포함하는 제2 흡입 라인; 및 상기 트랩 탱크에 보관된 상기 처리액을 상기 기판 상으로 공급하도록 구성된 후단 공급 라인을 포함하며, 상기 유입 라인은 상기 유입 라인의 개구가 상기 제1 전단 공급 라인의 개구에 대향하도록 위치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; kor |
| recordid | cdi_epo_espacenet_KR20240003653A |
| source | esp@cenet |
| subjects | APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES |
| title | SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-20T19%3A38%3A42IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SON%20YOUNG%20JUN&rft.date=2024-01-09&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20240003653A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |